ViraScience.
Article

بررسی تأثیر تابش لیزر بر خواص الکتریکی و ساختاری لایه های نازک zno

فاطمه اسکندری، f eskandari isfahan university of technologyدانشگاه صنعتی اصفهان مهدی رنجبر، m ranjbar isfahan university of technologyدانشگاه صنعتی اصفهان پرویز کاملی، p kameli isfahan university of technologyدانشگاه صنعتی اصفهان هادی سلامتی، h salamati isfahan university of technologyدانشگاه صنعتی اصفهان

Abstract

در این مقاله لایه نازک zno به روش سل ‎ ژل بر روی زیرلایه شیشه ساخته شده است. لایه ‎ های اولیه ابتدا در دمای 100 و ˚c 240 خشک و سپس در دماهای 300 ، 400 و ˚c 500 پخت شده اند. اندازه ‎ گیری مقاومت دو نقطه ‎ ای نشان می ‎ دهد که مقاومت الکتریکی لایه ‎ های آماده شده، بسیار زیاد است. تابش پرتو لیزر اگزایمر krf ( 248nm = λ ) با تعداد پالس 1000 ، فرکانس 1hz و انرژی 90mj/cm2 بر سطح لایه باعث کاهش مقاومت الکتریکی لایه می شود. طیف پراش پرتو ایکس ( xrd ) بهبود ساختار هگزاگونال ورتسایت لایه را تأیید می کند، و آنالیز afm و fe-sem شکل ‎ گیری منظم و دایروی دانه ‎ ها بر سطح لایه را نشان داد. اندازه ذرات بعد از تابش لیزر از 10nm ~ به 30nm ~ افزایش پیدا می کند. به طور کلی، نشان داده شده است که، ویژگی ‎ های ساختاری، الکتریکی و مورفولوژی لایه ‎ ها با تابش لیزر به طور قابل ملاحظه ‎ ای بهبود می ‎ یابد.

Similar items