بررسی رفتار عیب اکسید فیلم دولایه در مذاب al-4.5wt% mg و al با خلوص تجاری
Abstract
احتمال پیوند دولایه عیب فیلم اکسیدی دولایه هنگامیکه در مذاب al-4.5wt% mgو al با خلوص تجاری نگه داشته شده اند، مورد بررسی قرار گرفت. این عیب، به وسیله نگهداری دولایه اکسید آلومینیوم در تماس با همدیگر در مذاب al-4.5wt% mg و al با خلوص تجاری در دمای °c750 و برای مدت زمان های متفاوت به صورت تجربی مدل سازی شد. تغییرات صورت گرفته در ترکیب شیمیایی و مورفولوژی لایه ها ی اکسیدی به وسیله edx،sem و xrd مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج حاصل از بررسی رفتار عیب فیلم اکسید دولایه در مذاب al-4.5wt% mg نشان دادند که برخلاف بررسی های پیشین بر روی al-0.3wt% mg، که در آن دولایه اکسیدی بعد از 5 ساعت نگهداری با همدیگر پیوند برقرار کردند، نگهداری دولایه اکسیدی در مذاب al-4.5wt% mg به مدت 16 ساعت، باعث ایجاد پیوند بین دو لایه نگردید. عدم پیوند بین دولایه در این آلیاژ به فقدان یک دگرگونی فازی شامل آرایش مجدد اتم ها در سطح لایه های اکسیدی نسبت داده شد. همچنین نتایج حاصل از بررسی رفتار این عیب در مذاب al با خلوص تجاری نشان دادند که پیوند دولایه اکسیدی تقریباً بعد از 5 ساعت شروع شد و به تدریج با گذشت زمان نگهداری افزایش یافت. ایجاد پیوند بین دولایه در این آلیاژ به استحاله ? – al2o3 به al2o3 –? نسبت داده شد. پیوند کامل بین لایه ها بعد از 13 ساعت، وقتی که اکسیژن و نیتروژن محبوس بین دولایه مصرف شدند، ایجاد شد. نتایج همچنین نشان دادند که نیتروژن اتمسفر محبوس در عیب با مذاب al پیرامون واکنش داده و aln در فصل مشترک عیب و مذاب تشکیل شد.