بررسی مدل های رشد لایه نازک بر روی زیرلایه های ناهموار
Abstract
در این پایان نامه سعی شده تا به بررسی نقش زبری زیرلایه در فرایند رشد سطح پرداخته شود. برای این منظور به بررسی مدلهای معروف رشد پرداختیم .
در این پایان نامه سعی شده تا به بررسی نقش زبری زیرلایه در فرایند رشد سطح پرداخته شود. برای این منظور به بررسی مدلهای معروف رشد پرداختیم .
سینتیک رشد لایه نازک کربن آمورف طی فرآیند انباشت در رابطه با مورفولوژی سطح و تحولات ساختاری لایهها بررسی شد. لایه نازک کربن آمورف با استفاده از روش کندوپاش پرتو یونی بر سطح شیشه انباشت شد. بر اساس مدل آورامی، رشد لایه نازک کربن آمورف در ضخامتهای بالاتر از nm 56 ( بعد از s 900 انب
لایه نازک نانوهیبریدی تترا اتیل اورتوسیلیکات- تریگلیسیدوکسییپروپیل تریمتوکسیسیلان روی زیرلایه پلیمتیل متاکریلات بهروش سل- ژل غوطهوری اعمال شد. آزمونهای پراشسنجی پرتو ایکس، طیفسنجی تبدیل فوریه مادون قرمز با تکنیک بازتاب کلی تضعیف شده، میکروسکوپی الکترونی روبشی گسیل میدان
در این تحقیق لایه های نازک pb با ضخامت های مختلف به روش الکتروانباشت تک حمام و با استفاده از سه الکترود بر روی زیرلایه های مس و طلا تهیه شدند. برای به دست آوردن ولتاژ مناسب انباشت از مطالعه ولتامتر چرخه ای استفاده شد. ضخامت لایه های انباشت شده با استفاده از دستگاه dektak3 اندازه
لایه های نازک سولفید کادمیم، با استفاده از روش تبخیر آنی با نرخ لایه نشانی nm/s 5/2 و ضخامت تقریبی nm 800 در خلاء )6-10 5 تور( ساخته شدند. در این پژوهش، به منظور مطالعه آثار زیرلایه روی خواص ساختاری نمونه ها، از دو نوع زیر لایه، شیشه و ( ito )indium tin oxide استفاده گردید. خواص
لایه های نازک سولفید کادمیم، با استفاده از روش تبخیر آنی با نرخ لایه نشانی nm/s 5/2 و ضخامت تقریبی nm 800 در خلاء )6-10 5 تور( ساخته شدند. در این پژوهش، به منظور مطالعه آثار زیرلایه روی خواص ساختاری نمونه ها، از دو نوع زیر لایه، شیشه و ( ITO )Indium Tin Oxide استفاده گردید. خواص
لایه های نازک اکسید روی آلایش یافته با ناخالصی نیتروژن (ZnO:N) به روش اسپری پایرولیزیز بر روی شیشه و نیز لایه واسط اکسید روی خالص در دمای 0C450 به روش اسپری پایرولیزیز سنتز شدند. طیف XRD نمونه ها نشان دهنده رشد نمونه ها به صورت بس بلوری در فاز ششگوشی بوده در حالی که جهتگیری ترجیح