× خانه ژورنال ها پست ها ثبت نام ورود

بررسی اثر دمای زیرلایه بر خواص ساختاری و فیزیکی لایه نازک کربن انباشت شده به روش کندوپاش پرتو یونی

نویسندگان

چکیده

در تحقیق حاضر اثر دمای زیرلایه در محدوده ºC 400-36 بر خواص ساختاری و فیزیکی لایه نازک کربن ایجاد شده بر سطح شیشه به روش کندوپاش پرتو یونی بررسی شده است. خواص نوری و ساختاری لایه به ترتیب به وسیله طیف سنجی UV-visible، طیف سنجی رامان و میکروسکوپ نیروی اتمی مورد مطالعه قرار گرفته است. اندازه‏گیری طیف عبور نمونه ها کاهش میزان عبور نور در محدوده مرئی با افزایش دمای انباشت را نشان می دهد. طیف رامان لایه ها نشان می دهد که ساختار لایه نازک کربن آمورف با افزایش دمای انباشت به سمت کربن آمورف گرافیتی تغییر می‏کند. بررسی لایه های انباشت شده در دمای بالاتر از ºC100 نشاندهنده روند کاهشی مقاومت الکتریکی اندازه‏گیری شده توسط روش چهار کاوه و انرژی نوار ممنوعه با افزایش دمای انباشت می باشد. در حالی که نتایج بررسی مورفولوژی سطح افزایش زبری سطح در اثر افزایش دمای زیرلایه را نشان می دهد. در نمونه های انباشت شده در دمای ºC100، حداقل اندازه خوشه های کریستالی گرافیتی با پیوندهایsp2 برابر با nm 36/0 و حداکثر انرژی نوار ممنوعه برابر با eV‎ 3 ‏می باشد.

برای دسترسی به متن کامل این مقاله و 10 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

ثبت نام

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

ورود

منابع مشابه

در این تحقیق با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی DC نانولایه‌های نقره با ضخامت nm 100 بر روی شیشه سفید (به ضخامت mm 4( برای استفاده به عنوان آینه خورشیدی در دماهای زیرلایه متفاوت انباشت شد. تاثیر افزایش دمای زیرلایه (K 500-300) در هنگام لایه‌نشانی بر رشد نانوذرات نقره بررسی شد. خواص لایه‌های نقره با دستگاه‌های XRD و SEM مورد بررسی قرار گرفت. لایه نقره کندوپاشی در دماهای مختلف زیرلایه از مدل ساخت...

علاقه به تحقیق و پژوهش در زمینه پلاسماهای غباری که رشته جدیدی در فیزیک پلاسما می‌باشد با توسعه صنعت میکروالکترونیک رشد چشمگیری داشته است. ذرات غبار که تا کنون به عنوان آلودگی در نظر گرفته می‌شدند، امروزه در فنآوری های لایه گذاری برای صنایع میکروالکترونیک، اپتیک، الکترواپتیک استفاده می‌شوند. در اینجا ما روی پوشش با ذرات غبار از طریق ایجاد لایه نازک ZnO:Al کار می‌کنیم. ذرات غبار Zn وAl  می‌باشند....

در این تحقیق تاثیر دمای زیر لایه در محدودهC˚450-100 برخواص ساختاری لایه‌های نیترید زیرکونیوم‌ که به‌روش کندوپاش شعاع یونی روی زیر لایه شیشه وسیلیکون تهیه شده ‌است، مورد ‌بررسی قرار گرفته ‌است. تعین ضخامت لایه‌ها با ‌استفاده از آنالیز RBS (طیف پس پراکندگی رادرفورد)   و‌تعیین فازهای کریستالی با توجه به آنالیز XRD (پراش پرتو X)‌ انجام شده‌است. نتایج XRD  نشان داد که با افزایش دما تا C˚400 بر میزان...