بررسی اثر دمای زیرلایه بر خواص ساختاری و فیزیکی لایه نازک کربن انباشت شده به روش کندوپاش پرتو یونی
نویسندگان
چکیده مقاله:
در تحقیق حاضر اثر دمای زیرلایه در محدوده ºC 400-36 بر خواص ساختاری و فیزیکی لایه نازک کربن ایجاد شده بر سطح شیشه به روش کندوپاش پرتو یونی بررسی شده است. خواص نوری و ساختاری لایه به ترتیب به وسیله طیف سنجی UV-visible، طیف سنجی رامان و میکروسکوپ نیروی اتمی مورد مطالعه قرار گرفته است. اندازهگیری طیف عبور نمونه ها کاهش میزان عبور نور در محدوده مرئی با افزایش دمای انباشت را نشان می دهد. طیف رامان لایه ها نشان می دهد که ساختار لایه نازک کربن آمورف با افزایش دمای انباشت به سمت کربن آمورف گرافیتی تغییر میکند. بررسی لایه های انباشت شده در دمای بالاتر از ºC100 نشاندهنده روند کاهشی مقاومت الکتریکی اندازهگیری شده توسط روش چهار کاوه و انرژی نوار ممنوعه با افزایش دمای انباشت می باشد. در حالی که نتایج بررسی مورفولوژی سطح افزایش زبری سطح در اثر افزایش دمای زیرلایه را نشان می دهد. در نمونه های انباشت شده در دمای ºC100، حداقل اندازه خوشه های کریستالی گرافیتی با پیوندهایsp2 برابر با nm 36/0 و حداکثر انرژی نوار ممنوعه برابر با eV 3 می باشد.
منابع مشابه
تاثیر دمای زیرلایه بر رشد نانوذرات نقره انباشت شده بر روی شیشه سفید به روش کندوپاش مغناطیسی
در این تحقیق با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی DC نانولایه‌های نقره با ضخامت nm 100 بر روی شیشه سفید (به ضخامت mm 4( برای استفاده به عنوان آینه خورشیدی در دماهای زیرلایه متفاوت انباشت شد. تاثیر افزایش دمای زیرلایه (K 500-300) در هنگام لایه‌نشانی بر رشد نانوذرات نقره بررسی شد. خواص لایه‌های نقره با دستگاه‌های XRD و SEM مورد بررسی قرار گرفت. لایه نقره کندوپاشی در دماهای مختلف زیرلایه از مدل ساخت...
متن کاملتأثیر زمان لایه نشانی بر خواص ساختاری و فیزیکی پوشش های کربنی لایه نشانی شده با روش کندوپاش مگنترونی
متن کامل
تأثیر زمان لایه نشانی بر خواص ساختاری و فیزیکی پوشش های کربنی لایه نشانی شده با روش کندوپاش مگنترونی
متن کامل
مشخصه یابی خواص لایه نازک الکترواپتیکی ZnO:Alساخته شده به روش ترکیبی کندوپاش پلاسمایی ساده و اکسیداسیون حرارتی
علاقه به تحقیق و پژوهش در زمینه پلاسماهای غباری که رشته جدیدی در فیزیک پلاسما می‌باشد با توسعه صنعت میکروالکترونیک رشد چشمگیری داشته است. ذرات غبار که تا کنون به عنوان آلودگی در نظر گرفته می‌شدند، امروزه در فنآوری های لایه گذاری برای صنایع میکروالکترونیک، اپتیک، الکترواپتیک استفاده می‌شوند. در اینجا ما روی پوشش با ذرات غبار از طریق ایجاد لایه نازک ZnO:Al کار می‌کنیم. ذرات غبار Zn وAl می‌باشند....
متن کاملتاثیر زمان کندوپاش پرتو یونی بر خواص ساختاری، چسبندگی و خوردگی پوشش نانوساختار نیتریدزیرکونیوم بر روی آلیاژ AZ91
متن کامل
تاثیر دمای زیرلایه بر روی خواص نانوساختاری لایه نیترید زیرکونیوم
در این تحقیق تاثیر دمای زیر لایه در محدودهC˚450-100 برخواص ساختاری لایه‌های نیترید زیرکونیوم که به‌روش کندوپاش شعاع یونی روی زیر لایه شیشه وسیلیکون تهیه شده است، مورد بررسی قرار گرفته است. تعین ضخامت لایه‌ها با استفاده از آنالیز RBS (طیف پس پراکندگی رادرفورد) و‌تعیین فازهای کریستالی با توجه به آنالیز XRD (پراش پرتو X) انجام شده‌است. نتایج XRD نشان داد که با افزایش دما تا C˚400 بر میزان...
متن کاملمنابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده{@ msg_add @}
عنوان ژورنال
دوره 11 شماره 4
صفحات 1- 10
تاریخ انتشار 2018-02-20
با دنبال کردن یک ژورنال هنگامی که شماره جدید این ژورنال منتشر می شود به شما از طریق ایمیل اطلاع داده می شود.
کلمات کلیدی
میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com
copyright © 2015-2023