نتایج جستجو برای: lpcvd

تعداد نتایج: 265  

2018
A. Manolis G. Dabos D. Ketzaki E. Chatzianagnostou S. Papaioannou D. Tsiokos L. Markey J.-C. Weeber A. Dereux A. L. Giesecke C. Porschatis N. Pleros

Plasmonic technology has attracted intense research interest enhancing the functional portfolio of photonic integrated circuits (PICs) by providing Surface-Plasmon-Polariton (SPP) modes with ultra-high confinement at sub-wavelength scale dimensions and as such increased light matter interaction. However, in most cases plasmonic waveguides rely mainly on noble metals and exhibit high optical los...

2005
A. Hasper C. J. Hoogendoorn

A model is presented to calculate the step coverage of blanket tungsten low pressure chemical vapor deposition (W-LPCVD) from tungs ten hexafluoride (WF6). The model can calculate tungsten growth in trenches and circular contact holes, in the case of the WF6 reduction by H2, Sill4, or both. The step coverage model predictions have been verified experimentally by scanning electron microscopy (SE...

Journal: :Journal of microelectromechanical systems 2021

The vapour etching of silicon sacrificial layers is often a critical process in the fabrication micro/nanosystems. This method has number attractive features, particular, high etch rates and good selectivities associated with photoresist, SiO 2 , stoichiometric Si xmlns:xlink="http://www.w3.org/...

Journal: :IEEE Electron Device Letters 2021

Multi-channel power devices, in which several AlGaN/GaN layers are stacked to achieve multiple two-dimensional electron gases (2DEGs), have recently led a significant increase the device conductivity while maintaining high breakdown voltage, resulting excellent DC performances. However, their dynamic performance is yet be demonstrated, especially due absence of an effective passivation techniqu...

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - پژوهشگاه مواد و انرژی - پژوهشکده علوم نانو 1390

لایه نشانی متوالی لایه های فوق نازک نانومتری ترکیبات سیلیکونی نیترید سیلیسیم، پلی سیلیکون و دی اکسید سیلیسیم به روش لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین (lpcvd) و بررسی خواص لایه ها، سینتیک و ترمودینامیک تشکیل آنها هدف نهایی این پروژه کارشناسی ارشد است. مواد اولیه مورد استفاده درلایه نشانی ها عبارتند از تری کلرو سیلان (tcs) ، دی کلرو سیلان (dcs) ، سیلان(sih4) ، نیتروژن(n2) ، اکسیژن (o2)...

نمودار تعداد نتایج جستجو در هر سال

با کلیک روی نمودار نتایج را به سال انتشار فیلتر کنید