در این پایان نامه ابتدا لایه های نازک اکسید سریم (ceo2) خالص و آلایش یافته با کلسیم به روش سل- ژل چرخشی و غوطه وری تهیه شدند. سپس تأثیر روش انباشت، فرآیند خشک سازی، نوع زیرلایه، عملیات بازپخت و آلایش کلسیم بر روی خواص ساختاری و اپتیکی نمونه ها مورد بررسی قرار گرفت.برای مشخصه یابی ساختاری نمونه ها از اندازه گیری طیف پراش پرتو ایکس (xrd) و تصاویر fesem از سطح نمونه ها و برای بررسی خواص اپتیکی از ...

لایه?های نازک اکسیدآهن با ضخامت 300 نانومتر به روش لایه ?نشانی الکتروشیمیایی بر روی شیشه رسانا FTO �نشانده و در دمای 300 درجه سانتی?گراد پخت شده?اند. به منظور تعیین ساختار، مورفولوژی سطح ، بررسی خواص الکتروکرومیک و اپتیکی لایهنازک اکسید آهن به ترتیب از آنالیزهای XRD،SEM ، ولتامتری چرخه?ای (CV)، کرونوآمپرومتری (CA) و �UV/Visاستفاده گردید. نتایج نشان می?دهند که لایه نازک اکسید آهن با فاز کریستالی...

در این مقاله، پودرba0.5 sr0.5 co0. 8 fe0.2 o3-δ (bscf)  با هدف استفاده به عنوان کاتد پیل سوختی اکسید جامد به روش سل- ژل ساخته شد. همچنین، لایه های نازک  bscf روی زیر لایه(sto)  srtio3، به روش لایه نشانی لیزر پالسی (pld) در فشارهای مختلف اکسیژن لایه نشانی شد. ساختار بلوری این نمونه ها توسط پراش پرتو x (xrd) و مورفولوژی سطح لایه ها توسط میکروسکوپ نیروی اتمی (afm) بررسی شد. اندازه گیری مقاومت الکت...

در این تحقیق آینه¬های گرمایی بر پایه¬ی چند لایه های wo_3/ag/wo_3/glass به روش پرتو الکترونی ساخته شد. ضخامت لایه¬های اکسید تنگستن در 40 نانومتر ثابت نگه داشته شده و ضخامت لایه¬ی میانی نقره 10،12 و 14 نانومتر انتخاب شد. اثرات بهینه سازی اولین لایه¬ی اکسید تنگستن برای رسیدن به ضخامت موثر و کم کردن نفوذ لایه¬ها در یکدیگر بررسی شد. برای سیستمی که اولین لایه¬ی اکسید تنگستن آن (با ضخامت 40 نانومتر) د...

در این مقاله از لایه نازک حساس به نور هالید نقره برای ساخت توری پراش هولوگرافیک بازتابی استفاده شده است. ساخت قطعات اپتیکی هولوگرافیک بازتابی بر روی لایه نازک حساس به نور هالید نقره به خاطر نوارهای تداخلی فوق العاده ریز موجود در آن، مشکل است. مزیت اصلی این روش پردازش این است که ضبط با حساسیت بالا به کمک باریکه لیزر در ناحیه طیف مریی انجام می شود. به همین دلیل در این مقاله یک روش پردازش بهینه بر...

در این کار تجربی لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع  (ito) با ترکیب های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای نهشته شدند. لایه ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای cْ450 تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع با تغییر غلظت آن از 5 تا wt%40 بر روی خواص ساختاری و اپتیک...

به منظور بررسی امکانپذیری جایگزینی پوششهای جدید با کروم سخت، لایه های نازک نیترید کروم در سیستم کند و پاش تهیه شدند. نتایج بدست آمده نشان داد که ریز ساختار پوششها به شدت به فشار نسبی گاز واکنشی وابسته است. با افزایش فشار نسبی گاز واکنشی ( N2)P در سیستم، در ابتدا فاز نیترید شکل می گیرد ولی با افزایش بیشتر گازهای واکنشی، پوششها نظم کریستالی خود را از دست داده و حالت آمورف پیدا می کنند. تغییر نسب...

لایه های نازک دی اکسید تیتانیوم با ضخامت 280 نانومتر با استفاده از روش کنــــدو پاش مغناطیسیDC روی زیر لایه شیشه تهیه شده اند.برای لایه نشانی از هدف فلز تیتانیوم به صورت ورق و گاز ترکیبی آرگون و اکسیژن و زیرلایه ای با دمای 250 درجه سانتی گراد استفاده شده است. دستگاه پراش اشعه X (XRD) فاز آناتاز را برای نمونه ها نشان داده است و توپوگرافی سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) مورد بررسی قر...

در این تحقیق لایه های نازک نیمرسانای اکسید قلع به روش بخار شیمیایی بر روی بسترهای شیشه ای تهیه شده است. سپس اثر شار اکسیژن و زمان لایه نشانی بر روی خواص ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک مورد مطالعه قرار گرفته است.لایه های تهیه شده توسط پراش پرتو ایکس (xrd)، میکروسکو‍‍‍پ الکترونی روبشیاثر میدان (fesem)و جذب نوری (uv-vis)مشخصه یابی شده اند. لایه ها دارای خواص بس بلور و یکنواخت با جهت گیری...

در این پایان نامه، لایه های نازک mgf2 بر روی زیر لایه bk7 و لایه های نازک al و ag بر روی لام میکروسکوپی توسط روش تبخیر در خلأ با استفاده از باریکه الکترونی لایه نشانی شدند. سپس به منظور بهبود خواص فیزیکی نمونه های تهیه شده از روش (lsp) laser shock peening بر روی آن ها توسط لیزر اگزایمر آرگون فلوراید با طول موج 193 نانومتر، انرژی mj 110 و بسامد hz1 با پالس های مختلف استفاده شد. روش lsp روشی است ...