نتایج جستجو برای: finfet تمام گیت دو فلزی

تعداد نتایج: 306128  

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه فردوسی مشهد - دانشکده مهندسی 1391

محدودیت های عملکرد ذاتی ترانزیستورهایsi در دماها و توان های بالا انگیزه اصلی گرایش به سمت نیمه هادی هایی با شکاف انرژی بالا نظیر sic و gan بوده است. در بسیاری از کاربردها از قبیل کاربردهای نظامی و رادار لازم است مدارهایی با قابلیت های پهن باند مورد استفاده قرار گیرند. طراحی تقویت کننده های توان با کارایی بالا مهم ترین مساله ای ایست که در طراحی فرستنده ها باید مورد توجه قرار گیرد. در سال های اخ...

2011
Md. Alamgir

FinFET devices are comprehensively investigated owing to the projection for application in the CMOS integrated circuits fabrication. Deducing MOSFET size have great influence on electrostatic characteristic.The indiscriminate variations of the characteristics lead to a divergence effect which is imperative from the point of view of design and manufacture. In this paper different types of the po...

2017

Fully-depleted transistor technologies, both planar and fin-type, are now in the mainstream for product designs. One of the many interesting topics in the new 3D FinFET technology is the approach to isolation. In this article, key elements that differentiate junction-isolated (bulk) and dielectric-isolated (SOI) FinFET transistors are discussed, encompassing aspects of process integration, devi...

2001
Xuejue Huang Wen-Chin Lee Charles Kuo Digh Hisamoto Erik Anderson Hideki Takeuchi Yang-Kyu Choi Kazuya Asano Vivek Subramanian Jeffrey Bokor Chenming Hu

High-performance PMOSFETs with sub-50–nm gate-length are reported. A self-aligned double-gate MOSFET structure (FinFET) is used to suppress the short-channel effects. This vertical double-gate SOI MOSFET features: 1) a transistor channel which is formed on the vertical surfaces of an ultrathin Si fin and controlled by gate electrodes formed on both sides of the fin; 2) two gates which are self-...

2015
Chien-Ju Chen Ming-Long Fan Ching-Te Chuang Steven A. Vitale

In this paper, we analyze the variability of III-V homojunction tunnel FET (TFET) and FinFET devices and 32-bit carry-lookahead adder (CLA) circuit operating in near-threshold region. The impacts of the most severe intrinsic device variations including work function variation (WFV) and fin line-edge roughness (fin LER) on TFET and FinFET device Ion, Ioff, Cg, 32-bit CLA delay and power-delay pr...

Journal: : 2022

سابقه و هدف: گیاه­ پالایی مقرون­ به­ صرفه سازگار با محیط زیست است که در آن گیاه از توانایی‌‌های طبیعی خود برای بازیابی استفاده ‌‌می‌‌‌کند. گیاهان مورد باید توانایی انباشت مقادیر زیادی آلاینده‌‌های فلزی را بدون ایجاد سمیت آنها داشته باشند. امروزه افزایش جمعیت جهان به دنبال توسعه صنایع کارخانه‌‌ها، بر میزان پساب‌‌های وارده غالبا حاوی فلزات سنگین مختلف ‌‌می‌‌‌باشند، افزوده ‌‌می‌‌‌شود. تاثیرات مخرب...

2015
Xinfei Guo Qing Qin Charles L. Brown

FinFET has appeared to be a good candidate for further extending the technology to the nanoscale regime due to its excellent electrostatic properties and comparative ease of fabrication. Due to little/no body effect in FinFET devices, there is a good chance of increasing the stack height to enable more complex gates and reduce logic depth, which could further improve metrics, like performance. ...

2015
Bibin Lawrence R

Considering the difficulties in planar CMOS transistor scaling to secure an acceptable gate to channel control FinFET based multi-gate (MuGFET) devices have been proposed as a technology option for replacing the existing technology. The desirability of FinFET that it’s operation principle is same as CMOS process. This permits to lengthening the gate scaling beyond the planar transistor limits, ...

Journal: : 2022

هدف: کبد از حساس‌ترین بافت‌های هدف فشار اکسایشی ناشی تمرین می‌باشد و آمینوترانسفراز‌های کبدی، شاخص‌های حساسی برای تعیین آسیب دیدگی سلول‌های کبدی هستند. پژوهش حاضر با مقایسه تأثیر هشت هفته TRX مقاومتی سنتی بر برخی آنزیم‌های (آسپارتات آمینو ترانسفراز آلانین ترانسفراز) در زنان غیرفعال انجام گرفت.روش ­ها: این که به روش نیمه تجربی شد، 28 دختر میانگین سن41/1±07/21 سال شاخص توده بدن 25/4±52/22 کیلوگرم...

2013
Myneni Jahnavi S.Asha Latha

Conventional CMOS technology's performance deteriorates due to increased short channel effects. Double-gate (DG) FinFETs has better short channel effects performance compared to the conventional CMOS and stimulates technology scaling. The main drawback of using CMOS transistors are high power consumption and high leakage current. Fin-type field-effect transistors (FinFETs) are promising substit...

نمودار تعداد نتایج جستجو در هر سال

با کلیک روی نمودار نتایج را به سال انتشار فیلتر کنید