DOR:98.1000/1735-0913.1398.34.100.66.1.9.1604 در این تحقیق جهت بهبود ویژگی ممانعتی کاغذ نسبت به عبور اکسیژن، پلیمر EVOH به روش روزن‌رانی بر روی کاغذ حاصل از خمیر CMP پوشش‌دهی گردید. پلیمر اتیل وینیل الکل (EVOH) با وجود نفوذپذیری کم نسبت به عبورگازها، مقاومت کمی نسبت به عبور آب و بخار آب دارد. سپس دی‌متوکسی‌دی‌متیل سیلان به عنوان پوشش آب‌گریز بر روی پلیمر EVOH با روش رسوب شیمی...

پوشش های سخت مانند نیترید تیتانیم و کاربید تیتانیم به دلیل داشتن خواص منحصر به فرد، همانند سختی و استحکام بالا، مقاومت بالا به سایش و خوردگی، در محیط های صنعتی مانند ابزارهای برش، سایش و قالب های اکستروژن، کاربرد دارند. در صورتی که این نوع پوشش ها به صورت چند لایه استفاده شوند، خواص مکانیکی بهتری از خود نشان می دهند. پوشش های نازک و سخت معمولاً توسط تکنیک های مختلف ترسیب از فاز بخار فیزیکی و شیم...

این تحقیق بمنظور تولید لایه های نازک از ذرات دی اکسید تیتانیم در اندازه نانو و بررسی نمونه های tio2 همراه با مخلوط نانوتیوبهای کربنی چند دیواره و مقایسه با لایه های بدون نانوتیوب و همچنین بررسی عوامل موثر بر ساختار کریستالی، مورفولوژی و دیگر خواص این نمونه ها انجام شد. جهت سنتز تیتانیا از روش سل-ژل و برای تهیه لایه های نازک از لایه نشانی چرخشی استفاده کردیم. از تترا ایزو پروپیل اورتو تیتانات ب...

ضریب شکست نور یکی از ثوابت مهم در طراحی لایه‌های نازک اپتیکی است و بسته به ضخامت،  دانسیته لایه، شبکه کریستالی و عیوب داخلی تغییر می‌کند. امواج الکترومغناطیسی تابشی بر روی سطح لایه به تناسب ضریب شکست در مقادیر مختلف، جذب، منعکس و یا عبور می‌کند و مقداری از آن نیز بدلیل معایب سطحی و داخلی لایه پراکنده می‌شود. لایه‌های نازک سیلیکا بصورت منفرد و یا در ترکیب با سایر اکسیدها در تولید خواص اپتیکی کار...

تلاش برای بهبود خواص سطح غشاءهای پلیمری از قبیل غشاء پلی پروپیلن بسیار مهم می باشد. روش های متفاوتی از قبیل: تابش نور فرابنفش، تابش اشعه ی گاما و پلاسما و انباشت نانو ذرات اکسید های فلزی از جمله tio2 برای اصلاح ویژگی های سطح به کار گرفته می شود. این روش ها برای رسیدن به یکی از اهداف زیر به کار گرفته می شوند: ایجاد گروه های عاملی ویژه، افزایش انرژی سطح، افزایش آبدوستی یا آبگریزی و بهبود مورفولوژ...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°c40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°c65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

لایه نشانی شیمیایی بخار یک ماده ی پلیمری (پلی کربوسیلان) در یک رآکتور استوانه ای و در فشار جو با استفاده از گاز آرگون، به عنوان گاز حامل، برای تولید فیلم نازک سیلیکون کرباید، شبیه سازی شده است. شبیه سازی به صورت عددی و با به کارگیری روش حجم محدود، انجام شده است. تاثیر پارامترهای کسرجرمی ورودی، عدد رینولدز ورودی، دمای زیرلایه، فاصله ی زیرلایه از ورودی، دمای دیواره ی رآکتور، دمای مخلوط ورودی، و ...