سنتز و شناسایی کمپلکس های بازشیف حاصل از تری اتیلن تتراآمین و بررسی اثر آنها بر خواص فیلم های لایه نازک نانوساختار روی اکسید

پایان نامه
چکیده

لیگاندهای بازشیف به آسانی سنتز شده و با اغلب یون های فلزی تشکیل کمپلکس می دهند. کمپلکس های یون های فلزات واسطه با لیگاندهای بازشیف، به دلیل داشتن کاربردهای بالقوه فراوان در طول سال های متمادی به طور وسیعی مورد مطالعه قرار گرفته اند. این کمپلکس ها دارای خواص کاتالیستی، مغناطیسی، دارویی، بیولوژیکی و غیره هستند. بنابراین سنتز و بررسی ویژگی های ساختاری و اسپکتروسکوپی آنها در شیمی کئوردیناسیون مورد توجه می باشد. اکسیدهای فلزی در ابعاد نانو مانند روی اکسید به عنوان مهمترین مواد معدنی، استفاده وسیعی در صنایع پلاستیک، رشته مهندسی الکترونیک و در واکنش های کاتالیتیکی دارند. امروزه تهیه فیلم های روی اکسید با رسانایی و شفافیت نوری بالا، به دلیل داشتن کاربردهای بالقوه در نیمه هادی های مختلف، ابزارهایی نظیر حسگرهای گاز، وسایل الکترونیکی شفاف و سلول های خورشیدی بسیار مورد توجه قرار گرفته است. فیلم های روی اکسید یک نیمه هادی نوع n با شکاف انرژی بالا (ev3/3?) و عبور نور بالا (%90-%80?) در ناحیه مریی هستند. شکاف انرژی فیلم های روی اکسید را می توان از طریق تغییر استوکیومتری فیلم ها و یا دوپ کردن با دوپ کننده های مناسب اصلاح کرد. گاف انرژی روی اکسید می تواند از ev 8/2 تاev 4 تغییر کند. در این تحقیق لیگاندها و کمپلکس های جدید باز شیف شامل: 1- n,n-2و2- (2- (3-نیتروفنیل)ایمیدازولیدین- 1و3- دی ایل)بیس (n- (3- نیترو بنزیلیدین) اتانامین 2- 1و4- بیس(2- سالیسیلیدنا مینواتیل)- پیپرازین 3- (1و8- بیس(سالیسیل آلدیمیناتو) - 3و6- دی آزواکتان)- منگنز (iii) هگزافلوروفسفات 4- (1و8- بیس(سالیسیل آلدیمیناتو) - 3و6- دی آزواکتان)(مورفولین)- منگنز (iii) هگزافلوروفسفات 5- (1و8- بیس(سالیسیل آلدیمیناتو) - 3و6- دی آزواکتان)(پیریدین)- منگنز (iii) هگزافلوروفسفات 6- (1و8- بیس(سالیسیل آلدیمیناتو) - 3و6- دی آزواکتان) – آهن (iii) هگزافلوروفسفات 7- (1و8- بیس(سالیسیل آلدیمیناتو) -3و6- دی آزواکتان) – آهن (iii) نیترات 8- کلرو[1و4- بیس(2-سالیسیلیدن ایمینواتیل) - پیپرازین] کبالت (??) 9- دی کلرو(1و8- بیس(سالیسیل آلدیمیناتو)- 3و6- دی آزواکتان) - مس (??) 10- بیس(m2- (بیس(سالیسیل آلدهید)- اتیلن دی- ایمیناتو - o,o,o,n,n)) مس (ii)( 11- (1و8- بیس (سالیسیل آلدیمیناتو)-3و6- دی آزواکتان) - روی(??) تهیه شدند. کمپلکس های سنتز شده بوسیله ی تکنیک هایی نظیر طیف سنجی زیرقرمز، فرابنفش- مریی، تجزیه گرمایی و پراش پرتو ایکس تک بلور مورد شناسایی قرار گرفتند. در ادامه این تحقیق فیلم های لایه نازک نانوساختار روی اکسید روی بستر شیشه ای بوسیله فرآیند سل- ژل و با استفاده از تکنیک های پوشش دهی چرخشی وغوطه وری تهیه شدند. همچنین تأثیر کمپلکس های سنتزشده بر روی خواص نوری، الکترونی و ساختاری فیلم لایه نازک نانوساختار روی اکسید بررسی شد. این مطالعات بیش از پیش راه جدیدی در نانوفناوری جهت تهیه فیلم های لایه نازک در ابعاد نانومتری برای کاربرد منحصر به فرد این کمپلکس ها در واکنش های فتوکاتالیتیکی نمایان می کند.

۱۵ صفحه ی اول

برای دانلود 15 صفحه اول باید عضویت طلایی داشته باشید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

بررسی تاثیر شیوه خشک سازی بر خواص اپتیکی فیلم های نازک نانو ساختاری اکسید نیکل

The nanostructured nickel oxide thin films were prepared by dip coating sol – gel method. Three methods (drying with oven, IR and microwave) have used for drying the films. The effect of drying method on the optical, molecular, electrical, structural, and morphology properties of the films were studied by Uv-Visible spectrophotometry, Fourier Transform Infrared spectroscopy, Hall effect, X-ray ...

متن کامل

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

متن کامل

بررسی تاثیر کاشت یون نیتروژن بر خواص لایه نازک اکسید روی (ZnO)

در این پژوهش، اثر کاشت یون +N در نیم‌رسانای ZnO (اکسید روی) جهت بررسی تغییرات خواص لایۀ نازک ZnO  بررسی شده است. بدین منظور لایۀ نازکی از ZnO به ضخامت nm ١٢۰ با استفاده از روش کندوپاش تهیه شد و سپس به وسیلۀ یون­های N+ با انرژی keV ۵۰ و شار ١۰١٤ (/cm2یون) به مدت زمان ۳ ثانیه بمباران شد. تأثیر کاشت یون+N در خواص بلوری ZnO توسط آنالیزXRD (پراش پرتو X) و تغییرات ریخت­شناسی سطح به وسیلۀ آنالیزهای AF...

متن کامل

بررسی اثر زمان لایه نشانی بر خواص فیزیکی لایه های نازک N:ZnO

در این تحقیق لایه‌های نازک N:ZnO روی زیر لایه شیشه با استفاده از کندوپاش DC در فشار کاری Torr 2-10×2 در مخلوط گازهای آرگون و نیتروژن لایه نشانی شدند. ضخامت، ریخت‌شناسی، ساختار کریستالی و خواص اپتیکی لایه‌ها در سه زمان کندوپاش مختلف شناسایی شدند. با افزایش زمان لایه نشانی، ضخامت لایه‌ها، زبری سطح و ارتفاع دانه‌ها افزایش می‌یابد. لایه‌ها دارای بافت قوی کریستالی در راستای (002) با ساختار هگزاگونال...

متن کامل

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


نوع سند: پایان نامه

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه اصفهان - دانشکده علوم

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023