بررسی ویژگی های الکتریکی و ساختاری لایه های نازک فلزی(مس، نقره وآلومینیوم)

پایان نامه
  • وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه اراک - دانشکده علوم انسانی
  • نویسنده مهدیه سادات
  • استاد راهنما اکبر زنده نام
  • تعداد صفحات: ۱۵ صفحه ی اول
  • سال انتشار 1389
چکیده

در این کار تجربی سعی شده است برخی ویژگی های الکتریکی و ساختاری لایه های نازک سه فلز مس ، نقره و آلومینیوم ، مورد مطالعه قرار گیرد. ایجاد لایه های نازک فلزی با ویژگی های ساختاری و الکتریکی مناسب از اهمیت اساسی در علوم و تکنولوژی های متفاوت برخوردار است. به علت مزیت های فراوان این لایه ها در اتصالات بینابینی ، به دلیل مقاومت الکتریکی پایین و دمای ذوب بالا مطالعه لایه های نازک این سه فلز بر ویژگی های الکتریکی و میکروساختاری آنها به روش های مختلف تمرکز یافته است. در این پروژه ، لایه های نازک cu ، ag و al بر زیرلایه های شیشه ، با بهره گیری از روش کندوپاش dc مگنترون و در فشار ثابت 0.02mbar ، تولید شدند. تأثیر برخی پارامترهای انباشت مانند ضخامت ، دمای انباشت و دمای بازپخت و آهنگ انباشت بر ویژگی های این لایه ها بررسی شده است. در فصل 1 این پایان نامه به معرفی مختصر چند ویژگی از مواد مورد استفاده در این پروژه پرداخته شده است .در فصل دوم ،به تعدادی از تحقیقات انجام شده در این راستا که توسط دیگران انجام شده ، اشاره شده است. در فصل سوم درباره روش لایه نشانی و دستگاه های به کار گرفته شده و نیز توضیحات مختصری از روش های آنالیز نمونه ها ، بحث شده است. در فصل چهارم ،اثر دمای انباشت و دمای بازپخت بر مورفولوژی سطح لایه ها توسط آنالیز afm ، بررسی شده است و نیز از آنالیز پراش اشعه ایکس (xrd)، برای بررسی برخی پارامترهای انباشت بر ساختار لایه ها و راستای ترجیحی رشد و دانه بندی آنها استفاده شده است. در فصل پنجم، ویژگی های الکتریکی لایه های نازک این سه فلز مورد مطالعه قرار گرفت مقاومت الکتریکی لایه ها به روش چهارسوزنه خطی و مربعی اندازه گیری شده و تأثیر عوامل مختلف مانند ضخامت ، دمای انباشت و دمای بازپخت بر ویژگی های الکتریکی این فلزات ، بررسی شده است.

۱۵ صفحه ی اول

برای دانلود 15 صفحه اول باید عضویت طلایی داشته باشید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

بررسی تأثیر تابش لیزر بر خواص الکتریکی و ساختاری لایه های نازک zno

در این مقاله لایه نازک zno به روش سل ‎ ژل بر روی زیرلایه شیشه ساخته شده است. لایه ‎ های اولیه ابتدا در دمای 100 و ˚c 240 خشک و سپس در دماهای 300 ، 400 و ˚c 500 پخت شده اند. اندازه ‎ گیری مقاومت دو نقطه ‎ ای نشان می ‎ دهد که مقاومت الکتریکی لایه ‎ های آماده شده، بسیار زیاد است. تابش پرتو لیزر اگزایمر krf ( 248nm = λ ) با تعداد پالس 1000 ، فرکانس 1hz و انرژی 90mj/cm2 بر سطح لایه باعث کاهش مقاومت ...

متن کامل

بررسی ساختاری لایه های نازک CdS ساخته شده روی زیرلایه های با شرایط متفاوت

لایه های نازک سولفید کادمیم، با استفاده از روش تبخیر آنی با نرخ لایه نشانی nm/s 5/2 و ضخامت تقریبی nm 800 در خلاء )6-10 5 تور( ساخته شدند. در این پژوهش، به منظور مطالعه آثار زیرلایه روی خواص ساختاری نمونه ها، از دو نوع زیر لایه، شیشه و ( ITO )Indium Tin Oxide استفاده گردید. خواص ساختاری نمونه ها توسط پراش اشعه ایکس مورد بررسی قرار گرفت. محاسبه پارامترهای ساختاری آشکار نمود که نمونه ه...

متن کامل

بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع

در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثابت نگه داشته شد. از تکنیک های پراش پرتو ایکس (XRD) و بازتاب سنجی اشعه ایکس (XRR) برای آنالیز ساختاری لایه های نازک اس...

متن کامل

بررسی اثر مقدار نیتروژن بر خصوصیات ساختاری ، فازی و مورفولوژی سطح لایه های نازک نیترید تنگستن

لایه های نیترید تنگستن با ساختاری بلوری به روش تبخیر شیمیایی و در غلظتهای مختلفی از گاز نیتروژن در ترکیب گازی آرگون و نیتروژن تولید شد. نتایج بدست آمده نشان می دهد که غلظت نیتروژن در گاز ترکیبی تاثیر بسزایی روی ساختار، فازهای تشکیل شده، مورفولوژی سطح لایه ها و حتی اندازه دانه ها دارد. پراش اشعه ایکس، ساختار بلوری هگزاگونال WN را در نمونه های با غلظت کم نیتروژن )%10N2=، %30N2= و %50N2= (نشان می ...

متن کامل

رشد و بررسی خواص ساختاری و الکتریکی لایه های نازک pb الکتروانباشت شده بر روی زیرلایه های au و cu

در این تحقیق لایه های نازک pb با ضخامت های مختلف به روش الکتروانباشت تک حمام و با استفاده از سه الکترود بر روی زیرلایه های مس و طلا تهیه شدند. برای به دست آوردن ولتاژ مناسب انباشت از مطالعه ولتامتر چرخه ای استفاده شد. ضخامت لایه های انباشت شده با استفاده از دستگاه dektak3 اندازه گیری شد. نانوساختار این لایه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی روبشی و الگوی پراش اشعه ایکس مورد مطالعه قرار گرفت. ...

متن کامل

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


نوع سند: پایان نامه

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه اراک - دانشکده علوم انسانی

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023