لایه نشانی sio2 با کمک فشار و استخراج مدل و آنالیز استوکیومتری نتایج بوسیله rbs

پایان نامه
چکیده

برای بخش عایق لایه های نازک معمولا از دی اکسید سیلیسیوم استفاده میکنندکه این اکسید از ترکیب سیلان و اکسیژن است. درنتیجه برای یک لایه با کیفیت ابتدا باید مکانیزم ترکیب سیلان با اکسیژن بدست بیاید. سپس رابطه فشار و دما با این مکانیزم و بدست آوردن یک مدل برای این لایه نشانی. درنهایت هم این نتایج بوسیله پراکندگی بازگشتی رادرفورد مورد آنالیز قرار گرفت تا کیفیت نهایی انها از نظر استوکیومتری مورد بررسی قرار گیرد

منابع مشابه

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


نوع سند: پایان نامه

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه قم - دانشکده علوم پایه

کلمات کلیدی

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023