افزایش مقاومت در برابر حلال و سختی کوپلیمر قطعه ای (استایرن- ایزوپرن- استایرن) در اثر تابش پرتو uv

واکنش ایجاد اتصالات عرضی در پلیمر در اثر تابش پرتو uv ، در صنعت به خصوص برای کاربرد های پوشش دهی، رنگ وچاپ بسیار اهمیت دارد. در این پژوهش کوپلیمرقطعه ای(استایرن-ایزوپرن-استایرن) به عنوان پلیمر پایه انتخاب شد و واکنش ایجاد اتصالات عرضی در اثرتابش پرتو uv، در حضورآغازگر نوری بنزویین ومونومر عامل اتصالات عرضی اتیلن گلایکول دی متاکریلات (egdma) بررسی شد. پس از ترکیب مواد طبق فرمولاسیون های مشخص درون مخلوط کن داخلی ، نمونه ها به وسیله پرس گرم به شکل ورق آماده شد. طیف سنجی atr-ftir قبل و بعد از تابش پرتو uv نشان داد، پیک جذب مربوط به پیوند دوگانه کربن- کربن (c=c)، بعد از تابش پرتوuv به نمونه کاهش می یابد. این کاهش ناشی از واکنش پیوندهای دوگانه کوپلیمر با پیوند های دوگانه مونومر عامل اتصالات عرضی اتیلن گلایکول دی متاکریلات است. آزمون سختی و حلالیت نشان داد، با افزایش غلظت آغازگر نوری بنزویین (phr0.1-1) و مونومر عامل اتصالات عرضی egdma (phr10-1) ، سختی نمونه ومیزان در صدژل شدن افزایش ونسبت تورم کاهش می یابد. بیشترین میزان سختی ودرصدژل وکمترین میزان نسبت تورم، مربوط به نمونه حاوی phr1 آغازگرنوری بنزویین و phr10 مونومر عامل اتصالات عرضی egdma است به طوری که در این حالت، درصد ژل %8/53 وسختی %37 افزایش می یابد. نتایج آزمون پایداری حرارتی نشان داد، گرم کردن نمونه حاوی phr1 بنزویین وphr10 مونومرegdma (که تحت تابش پرتوuv قرار نگرفته) به مدت 5 دقیقه در دمای c° 150 موجب می شود که حدود %20 نمونه در حلال تولوئن نامحلول شود. همچنین عملکرد مونومر های دو عاملی بوتیل آکریلات ومتیل متاکریلات ومونومر چهار عاملی آلیل متاکریلات با عملکرد مونومر چهار عاملی egdma از نظر تاثیر بر خواص فیزیکی نمونه بررسی شد. نتایج نشان داد نمونه حاوی egdma دارای بیشترین میزان سختی است واستفاده از متیل متاکریلات و آلیل متاکریلات به عنوان مونومرعامل اتصالات عرضی اثری بر سختی ندارد . آزمون حلالیت نشان داد نمونه حاوی مونومر بوتیل آکریلات بیشترین میزان درصد ژل وکمترین نسبت تورم را دارد. میزان درصد ژل در نمونه حاوی متیل متاکریلات صفر ودر نمونه حاوی آلیل متاکریلات %8/12 است .