نام پژوهشگر: یوسف رنجبر

تهیه و شناسایی نانو سیلیکاهای عامل دار شده (اصلاح شده) جدید و استفاده از آن به عنوان کاتالیست هتروژن در واکنش های چند جزئی
پایان نامه وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه پیام نور - دانشگاه پیام نور مرکز - دانشکده علوم پایه 1392
  یوسف رنجبر   محمود تاجبخش

در سال های اخیر، به اصلاح و آمایش سطح پلیمر های معدنی و آلی به دلیل بهبود خواص آن ها از قبیل افزایش فعالیت، قدرت انتخاب گری بالا، انجام واکنش ها در شرایط ملایم، جداسازی ساده آن ها از مخلوط واکنش و کار در شرایط شیمی سبز توجه زیادی شده است. در میان این ترکیبات، سیلیکاژل و نانو سیلیکا به علت دارا بودن خواص منحصر به فرد از جمله نسبت سطح به جرم زیاد، پایداری شیمیایی و گرمایی بسیار بالا و سمیت ناچیز برای این منظور به وفور استفاده شده است. در همین راستا در بخش نخست از این پروژه ضمن اصلاح سطح سیلیکا با 3-مرکاپتو پروپیل تری متوکسی سیلان و به دنبال آن واکنش با کلرو سولفونیک اسید، سیلیکای پیوند یافته به s-سولفونیک اسید (sbssa) را تهیه کرده و از آن به عنوان کاتالیستی ناهمگن و قابل بازیافت در تهیه 4،3 دی هیدروپیریمیدینون ها در واکنش چند جزئی تک ظرفی با بازده بالا و زمان کوتاه استفاده کردیم. در بخش دوم با استفاده از سیلیکاژل نانو ، نانوسیلیکا کلراید (nsc) را از واکنش با تیونیل کلراید و به کمک امواج فراصوت با محتوی پیوند si-cl بیشتری نسبت به روش های موجود تهیه کرده و از آن نیز در سنتز دی هیدروپیریمیدینون ها (واکنش بیجینلی) و 4،1 دی هیدروپیریدین ها (واکنش هانتش) در شرایطی ملایم و آسان استفاده نمودیم. در بخش سوم از فعالیت مان پس از عامل دار کردن سطح سیلیکاژل با تری اتوکسی وینیل سیلان و به دنبال آن اکسایش پیوند دوگانه با محلول قلیایی پتاسیم پرمنگنات، در محل نانو mno2 ساپورت شده بر سطح سیلیکا تهیه شد و خواص و ویژگی های آن با xrd، xrf، sem و ftir بررسی گردید. این نتایج تثبیت ذرات mno2 بر سطح سیلیکا را با میانگین ابعاد 4/2 تا 9/13 نانو متر نشان می دهد. در ادامه به منظور ارزیابی سیلیکا نانو منگنز دی اکسید حاصل (snmd) از آن به عنوان عامل اکسنده در اکسایش الکل ها استفاده نمودیم. نتایج حاصل نشان داد که این واکنشگر الکل های آلیلی و بنزیلی را به طور انتخابی با بازده بسیار بالا، زمان کوتاه، شرایط ملایم وآسان در دمای اتاق به ترکیبات کربونیل متناظرشان تبدبل می کند.