جدید مدولاسیون پهنای پالس استفاده شده است. برخلاف روش های مرسوم در اینجا مدولاسیون شدت نور فرودی به روی فوتورزیست با استفاده از برهمنهی دو یا چند توری پراشی دامنه ای کنترل می شود. قبلا برای ساخت میکرومنشور ها با زاویه راس بزرگ از روش های دیگری غیر از ماسک های مقیاس خاکستری استفاده می شد که زمان وهزینه ی بیشتری مورد نیاز بود. اما با روش ارایه شده در این پایانامه می توان میکرو منشور هایی با زاویه بزرگ را با وقت و هزینه ی کمتر تولید کرد.همچنین در این زساله روش‎‎هایی برای کنت‎ر‎ل زاویه و یا انحنای قطعه میکرو اپتیکی ارایه شده است که در صنعت کاربرد بسزایی دارند. این پایانامه به ارائه روشی برای ساخت قطعات میکرو اپتیک عمیق ساختار (در اینجا میکرومنشور هایی با زاویه راس بزرگ) با استفاده از روش ماسک لیتوگرافی پرداخته است.همچنین روش هایی برای یکنواخت کردن سطوح تولید شده ارئه شد. در این پایانامه ابتدا روش های ساخت انواع قطعات میکرواپتیکی و تکنیک لیتوگرافی در ساخت این قطعات شرح داده شده است‏،سپس مراحل شبیه سازی کامپیوتری با استفاده از نرم افزار انجام شده است.بعد از بررسی نتایج شبیه سازی‏، تست اپتیکی الگوهای ماسک تولید کننده ی این قطعات‏، در اندازه ی بزرگتر از الگوهای اصلی قبل از انتقال نهایی به روی ماسک با استفاده از یک چیدمان اپتیکی شرح داده شده است.در فصل پایانی با بررسی نتایج شبیه سازی و تست آزمایشگاهی به چگونگی ساخت میکرو منشور بر روی فوتورزیست در اتاق تمیز با استفاده از تکنیک فوتولیتوگرافی و در نهایت تست قطعه حاصل با استفاده از دستگاه های مرتبط پرداخته شده است.نهایتا تکنیک طراحی و ساخت میکرو منشور ها با زاویه راس بزرگ(تا 26 درجه) تشریح شده است.