توجه روز افزون صنایع شیشه سازی، خودروسازی و غیره به پوشش های ضد بازتاب سبب پژوهش های کاربردی بسیاری از دانشمندان در زمینه لایه نازک سیلیکا شده است. در این پروژه، پوشش تک لایه و نانوساختار سیلیکا، به روش سل-ژل و تکنیک غوطه وری روی زیرلایه شیشه، با موفقیت اعمال شد. برای تهیه سل سیلیکا از پیش ماده آلکوکسیدی، حلال آلی و آب مقطر استفاده شد و با ایجاد سل پایدار، عملیات غوطه وری زیرلایه درون سل با سرعت های مختلف صورت گرفت. پارامترهای نسبت حلال به پیش ماده (فاکتور d)، سرعت غوطه وری و دمای عملیات حرارتی جهت بررسی خواص نوری پوشش تک لایه سیلیکا، مورد مطالعه قرار گرفت. مورفولوژی سطحی با میکروسکوپ نوری و میکروسکوپ الکترونی روبشی (fe-sem)، بررسی ساختاری پوشش با الگوی پراش اشعه x (xrd)، خواص نوری با طیف سنج uv-vis spectroscopy، توپوگرافی و زبری سطح با میکروسکوپ نیروی اتمی (afm) و آب دوستی پوشش با اندازه گیری زاویه تماس آب با سطح، بررسی شد. نتایج بدست آمده نشان داد که با افزایش فاکتور d، حداکثر درصد عبور نور به سمت طول موج های کمتر منتقل می شود. از این رو پوشش های تک لایه سیلیکا با فاکتورهای 20 = d و 10 = d به ترتیب با افزایش 2/3 و 4/2 درصدی در میزان عبور نور از زیرلایه شیشه، به عنوان پوشش های بهینه برای محدوده های نور مرئی و نور مادون- قرمز انتخاب می شوند. طبق بررسی مورفولوژی سطح، متوسط اندازه ذرات سیلیکا nm 35 اندازه گیری شد.