نانو ذرات اکسید آهن به روش همرسوبی تهیه شد و از سیتریک اسید به عنوان سورفکتانت اولیه استفاده شد . سپس به منظور تشکیل پوشش سیلیس روی نانو ذرات ، به پودر نانو ذرات تهیه شده تترا اتیل اورتو سیلیکات ( teos ) ، به روش سل-ژل افزوده شد . به منظور بررسی پارامترهای موثر در پوشش دهی ثانویه به روش سل-ژل 10 نمونه ساخته شد. ساختار ، اندازه و خواص مغناطیسی این نمونه ها به کمک دستگاههای ftir ، xrd، sem و vsm شناسایی شد . نتایج مشخصه یابی نانو ذرات حاصل به کمک دستگاههای فوق نشان داد ، نانو ذرات از نوع مگنتایت است . پیوندهای fe-o در مگنتایت پوشش داده شده با سیتریک اسید و پیوند si-o در نانو ذرات پوشش داده شده با teos شناسایی شد . با افزایش میزان teos ، کاهش نسبت الکل به آب و کاهش میزان آمونیاک شرکت کننده در روش سل-ژل ذرات ریزتری حاصل شد . همچنین کاهش اندازه ذرات در سه نمونه مورد ارزیابی با کاهش میزان مغناطش پذیری نانو ذرات همراه است . به منظور مقایسه چگونگی تاثیر سه پارامتر نام برده ، روی نانو ذرات پوشش داده شده با سیلیس که با سورفکتانت تری سیترات سدیم پوشش اولیه شدند سه نمونه دیگر ساخته شد . دستگاه ftir پیوند si-o را در این نمونه شناسایی کرد . نتایج حاصل از sem نشان داد ، با افزایش نسبت الکل به آب شرکت کننده در روش سل-ژل ذرات ریزتر شدند .