در پروژه ی پیش رو، به بررسی جذب فیزیکی گاز هیدروژن، اکسیژن و هلیوم بر روی گرافن و نانولوله ی تک دیواره ی زیگزاگ (0و8) به کمک نظریه ی تابعی چگالی (dft) پرداخته شده است. در این بررسی، جایگاه های مختلفی که مولکول گاز هیدروژن، اکسیژن و هلیوم میتوانند بر روی گرافن و نانولوله جذب شوند و همچنین حالت های موازی و عمودی که محور مولکول میتواند نسبت به سطح مورد بررسی به خود بگیرد با یکدیگر مقایسه شده و در نهایت بهترین و بهینه ترین جایگاه و حالت بدست آمده ، برای بررسی تاثیر جذب بر ساختار الکتریکی گرافن و نانولوله مورد مطالعه قرار گرفته است. نتایج بدست آمده تاثیر بسیار کم و کوچک جذب فیزیکی بر خواص الکتریکی گرافن و نانولوله را نشان میدهد.