4،4اکسی دی آنیلین (oda) و پیروملیتیک دی انیدرید (pmda)، پلی ایمید 4،4 اکسی دی فنیلن پیروملیتیک ایمید را با روش ایمیداسیون حرارتی می سازند، که قبل از مرحله ی بسته شدن حلقه ها ما آن را با 5% وزنی نانوذره ی سیلیکا همگن کردیم و همچنین ذره های sio2 را قبل از اضافه کردن به مخلوط واکنش بوسیله ی 4،4متیلن دی فنیلن دی ایزوسیانات (mdi) اصلاح سطحی کردیم. نانوذره های sio2 که با mdi اصلاح شده-اند (sio2-mdi) و نانوکامپوزیت های پلی ایمیدی pi/sio2) و pi/sio2-mdi) به صورت کامل توسط uv/vis و ft-ir و پراش اشعه ی xو اسکن میکروسکوپی الکترونی (sem) مورد آنالیز قرار گرفته اند. همچنین ترموگرام های tga/dtg نشان دهنده ی این است که 22% از گروه های سیلانول موجود در سطح نانوذره های sio2 توسط گروه های mdi اصلاح سطحی شده است. pi/sio2 پایداری حرارتی بیشتری نسبت به پلی ایمید بدون sio2 و همچنین pi/sio2-mdi در سراسر درجه حرارت اعمال شده نشان می دهد. اگرچه پلی ایمید خالص پایداری حرارتی بهتری نسبت به pi/sio2-mdi در محدوده ی°c 300-200 دارد ولی در دماهای بالاتر pi/sio2-mdi پایداری بیشتری نشان می دهد. pi/sio2-mdi یک الگوی تجزیه ای دو مرحله ای کامل را نشان می دهد که مرحله ی اول به دلیل وجود بخش آلی موجود در نانوذره های معدنی نمایان نشده است. با توجه به تغییرات شیب منحنی dta گذار فاز اول می تواند در محدوده ی حرارتی°c 400-300 بصورت نامحسوس دیده شود ولی برای pi/sio2 و pi/sio2-mdi به دلیل حضور نانوذره های sio2 در ماتریکس پلیمر دقیق دیده شود.