نام پژوهشگر: مسعود برکت

ارزیابی اثر اکسیژن اتمی روی پوشش کنترل حرارتی سیلیکونی سیاه در محیط شبیه سازی شده فضا
پایان نامه وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تحصیلات تکمیلی صنعتی کرمان - دانشکده علوم و فناوری های نوین 1392
  مسعود رنجبری کی   علیرضا گنجویی

در سال های اخیر اکسیژن اتمی به عنوان یکی از مخرب ترین عوامل روی مواد و سطوح فضاپیماها شناخته شده و مورد بررسی قرار گرفته شده است. بر هم کنش اکسیژن اتمی با مواد به فرسایش سطح، تغییر در ترکیب شیمیایی، تغییر در ریخت سطح، تغییر در خواص نوری و ایجاد ذرات و آلودگی مولکولی در سطح فضاپیما می انجامد. در این تحقیق در ابتدا پوشش کنترل حرارتی سیاه سیلیکونی از پلیمر پلی دی متیل سیلوکسان، عامل شبکه ساز اکسیم سیلان و رنگدانه کربن سیاه تهیه شد. آزمون های عمومی نظیر خمش، ضربه، سایش و... مورد ارزیابی قرار گرفت. سپس اثرات اکسیژن اتمی در سه شار، سه دما و سه زمان متفاوت بر اساس کاهش جرم، تغییر در مورفولوژی و ترکیب شیمیایی بررسی شد. پوشش تهیه شده دارای بالاترین مقاومت در برابر سایش، ضربه و خمش بوده و چسبندگی قابل قبولی دارد. همچنین این پوشش دارای ضریب جذب 98/0 و نشر 905/0 بوده که با نسبت ضریب جذب به نشر 08/1 خواص نوری خوبی را داراست. بررسی اثر تغییر در شار اکسیژن اتمی نشان داد که با افزایش شار اکسیژن اتمی تشکیل لایه ی محافظ sio2 روی پوشش بیشتر شده و کاهش وزن آن کمتر می شود ولی سطح آن به لحاظ تشکیل همین لایه ترد دارای ترک و ناهمواری هایی خواهد شد. با افزایش دما، تخریب پوشش افزایش یافته و سطحی با ترک و ناهمواری های زیاد به وجود می آید، لذا کاهش وزن افزایش یافته است. افزایش زمان ماندگاری در برابر اکسیژن اتمی به دلیل تشکیل لایه ی محافظ sio2، سبب کاهش تخریب پوشش می شود.