آلومینای نانو متخلخل شامل حفراتی در ابعاد نانومتر با فواصل منظم و یکنواخت، به عنوان تمپلت برای ساخت مواد نانوساختار متنوع، توجه زیادی را به خود جلب کرده است. به منظور به دست آوردن درج? بالایی از نظم در حفرات تمپلت aao، از روش اکسیداسیون دو مرحله ای آلومینیوم استفاده شد. بعد از آماده سازی، فویل آلومینیوم در محلول آبی اسیدی تحت ولتاژ ثابت در دمای oc 2-0 آندایز شد. آلومینای تشکیل شده در مخلوطی شامل اسید فسفریک و اسید کرومیک حذف شد. سپس فویل آلومینیوم دوباره تحت همان شرایط مرحل? اول، آندایز شد. تأثیر مدت زمان مرحل? اول آندایزینگ روی نظم حفرات بررسی شد. به عنوان یک نتیج? مهم، انداز? حوزه ها به عنوان تابعی از زمان تغییر می کند و با افزایش مدت زمان مرحل? اول مساحت حفرات هگزاگونال منظم (مساحت حوزه ها) در انتهای لای? اکسید متخلخل افزایش می یابد. تصویر sem از تمپلت aao آرایش تقریباً هگزاگونال از حفرات را نشان داد. قطر حفرات در حدود 20-15 نانومتر برای اسید سولفوریک و در حدود 50 نانومتر برای اسید اگزالیک تخمین زده شد. آرایه های نانوسیم ni به وسیل? ترسیب الکتریکی جریان مستقیم تحت پتانسیل(1-) ولت در دمای اتاق داخل حفرات تمپلت سنتز شدند. همچنین آنها به وسیل? ترسیب شیمیایی و الکتروشیمیایی با استفاده از جریان متناوب سنتز شدند. در روش a.c.، ترسیب الکتروشیمیایی با کاربرد موج سینوسی در چندین ولتاژ و فرکانس انجام شد. تصویر sem نشان داد که آرایه های نانوسیم ni موازی با هم هستند و به صورت منظم و متراکم توزیع شده اند. الگوی xrd نشان داد که نانوسیم های ترسیب شده به روش شیمیایی و الکتروشیمیایی، ساختار کریستالی fcc دارند. اما در روش شیمیایی به علت وارد شدن فسفر در ساختار نانوسیم، شدت پیک ها کاهش یافته است.

چکیده ندارد.