مطالعه الکتروشیمیایی n,n,n,n-تترا متیل-p-فنیلن دی آمین و رسوب الکتروشیمیایی نانو ذرات نقره بوسیله روش دو پالسی

رفتار الکتروشیمیایی n,n,n,n-تترا متیل-p-فنیلن دی آمین (p-tmpd) در بافر های مختلف ( 10-1=phs) در مخلوط آب/اتانول (96/4) با کمک تکنیک های ولتامتری چرخه ای (cv) وکولومتری در پتانسیل ثابت (cpc) مورد مطالعه قرار گرفت. با کمک داده های ولتامتری، مکانیسم اکسیداسیون الکتروشیمیایی برای p-tmpd پیش بینی شده است. اکسیداسیون الکتروشیمیایی p-tmpd در حضور آریل سولفینیک اسیدها به عنوان نوکلئوفیل، در 10-1=phs در مخلوط آب/اتانول (96/4) با کمک cv و cpc مورد مطالعه قرار گرفت. نتایج نشان دادند که p-tmpd در دو مرحله تک الکترونی برگشت پذیر اکسید می شودو بعد از اکسایش به p-tmpd++، در واکنش افزایش مایکل با آریل سولفینیک ها شرکت می کند. بعد از سنتز محصولات خالص سازی و توسطir, 1h nmr, 13c nmr و msشناسایی شدند. همچنین، در سال های اخیر از نانو ذرات نقره در کاتالیزورها، مواد نوری، الکترونیکی و در سایر قسمت ها به دلیل خواص منحصر به فرد نقره در وابستگی ویژگی مغناطیسی و الکتریکی به اندازه ذرات، استفاده می شود.در این کار نشان داده شده است که روش الکتروشیمیایی دو پالسی یک روش مناسب، سریع و آسان برای تولید نانو ذرات نقره است. رسوب الکتروشیمیایی فلزات یک روش آسان و سریع برای تهیه نانو بلورهای فلزات بر روی سطح بزرگی از بسترهای رسانا است. خوشه های نقره از سیانید های موجود در الکترولیت بر سطح استیل زنگ نزن،رسوب داده می شود. تاثیر پارامترهای پالسی روش دو پالسی پتانسیواستاتیکی بر توزیع اندازه خوشه های نقره مورد مطالعه قرار گرفته است. نقره رسوب داده شده بر سطح استیل زنگ نزن با کمک xrd و sem آنالیز شد.