Cryogenic Etching of Silicon: An Alternative Method for Fabrication of Vertical Microcantilever Master Molds
نویسندگان
چکیده
منابع مشابه
Techniques of cryogenic reactive ion etching in silicon for fabrication of sensors
Cryogenic etching of silicon, using an inductively coupled plasma reactive ion etcher ICP-RIE , has extraordinary properties which can lead to unique structures difficult to achieve using other etching methods. In this work, the authors demonstrate the application of ICP-RIE techniques which capitalize on the cryogenic properties to create different sensors geometries: optical, electrical, magn...
متن کاملThe fabrication of silicon nanostructures by local gallium implantation and cryogenic deep reactive ion etching.
We show that gallium-ion-implanted silicon serves as an etch mask for fabrication of high aspect ratio nanostructures by cryogenic plasma etching (deep reactive ion etching). The speed of focused ion beam (FIB) patterning is greatly enhanced by the fact that only a thin approx. 30 nm surface layer needs to be modified to create a mask for the etching step. Etch selectivity between gallium-doped...
متن کاملan application of fuzzy logic for car insurance underwriting
در ایران بیمه خودرو سهم بزرگی در صنعت بیمه دارد. تعیین حق بیمه مناسب و عادلانه نیازمند طبقه بندی خریداران بیمه نامه براساس خطرات احتمالی آنها است. عوامل ریسکی فراوانی می تواند بر این قیمت گذاری تاثیر بگذارد. طبقه بندی و تعیین میزان تاثیر گذاری هر عامل ریسکی بر قیمت گذاری بیمه خودرو پیچیدگی خاصی دارد. در این پایان نامه سعی در ارائه راهی جدید برای طبقه بندی عوامل ریسکی با استفاده از اصول و روش ها...
Cryogenic Deep Reactive Ion Etching of Silicon Micro and Nanostructures
OF DOCTORAL DISSERTATION HELSINKI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY P.O. BOX 1000, FI-02015 TKK
متن کاملFabrication of porous silicon-based silicon-on-insulator photonic crystal by electrochemical etching method
We present a fast, novel method for building porous silicon-based silicon-on-insulator photonic crystals in which a periodic modulation of the refractive index is built by alternating different electrochemical etching currents. The morphology and reflectance spectra of the photonic crystals, prepared by the proposed method, are investigated. The scanning electron micrograph and atomic force mic...
متن کاملذخیره در منابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ژورنال
عنوان ژورنال: Journal of Microelectromechanical Systems
سال: 2010
ISSN: 1057-7157,1941-0158
DOI: 10.1109/jmems.2009.2037440