Réacteur VUV à décharge interne pour le dépôt en couches minces de silicium amorphe, d'oxyde et de nitrure de silicium
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ژورنال
عنوان ژورنال: Annales de Physique
سال: 1992
ISSN: 0003-4169,1286-4838
DOI: 10.1051/anphys/1992011