نتایج جستجو برای: کندوپاش مگنترونی

تعداد نتایج: 169  

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تبریز - دانشکده فیزیک 1389

چکیده: کاربرد لایه های نازک نه تنها در اتصال قطعات منفرد به یکدیگر بلکه همچنین در تهیه خود قطعات اعم از فعال و نافعال، امکانات جدید میکروریزه شدن را فراهم آورده است. این امر از آنجا ناشی می شود که یکی از ابعاد (از دیدگاه ماکروسکوپی) تقریباً صفر است، و ضخامت عنصر تنها با ضخامت زیرلایه که فرآیند انباشت روی آن انجام می گیرد، تعیین می شود. لایه های نازک تیتانیوم آلومینیوم نیترید با شیوه های متفاو...

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تبریز - دانشکده فیزیک 1386

چکیده ندارد.

ژورنال: :فرآیندهای نوین در مهندسی مواد 2011
مهدی یاری مجید مجتهدزاده عبداله افشار

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تبریز - دانشکده فیزیک 1388

توسعه ی فن آوری خصوصاً در 25 سال گذشته عاملی شد تا لایه نشانی به روش کندوپاش پلاسمایی در زمینه های متنوع علمی، تحقیقاتی و صنعتی توسعه یابد. هدف ازانجام این پروژه، تعیین پارامترهای پلاسمایی دستگاه کندوپاش مکا 2000 است که لایه نشانی ها براساس این پارامترها انجام می یابد. پلاسمای مورد مطالعه، پلاسمای آرگون و منبع تغذیه، مگنترون dc است. در ابتدا پروب و فلنجه ی مناسب طراحی شده و روی دستگاه نصب می ش...

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی - دانشکده برق 1393

سلول خورشیدی مبتنی بر پیوند ناهمگون اکسید مس و اکسید روی azo مورد بررسی واقع گشت. اکسید مس به عنوان لایه ی جاذب این قطعه به روش کند و پاش لایه نشانی گردید. اندازه گیری های الکتریکی و نوری بر لایه های ایجاد شده صورت پذیرفت و ترکیبات مختلف اکسید مس با توجه به فشار جزیی اکسیژن محفظه ی لایه نشانی تفکیک گشت. لایه های به دست آمده مقاومتی در حدود 1 اهم سانتیمتر برای اکسید مس cu2o و 10 میلی اهم سانتیمت...

در این مقاله، فرایند لایه نشانی با لیزر پالسی و در حضور گاز پس‌زمینه به روش مونت کارلو شبیه‌سازی شده است. به طور خاص رشد فلز آلومینیوم در محیط گاز زنون پس‌زمینه و در فشار 50 میلی تور شبیه‌سازی شده است. فواصل هدف - زیرلایه برابر با 10، 15، 20، 25 و 30 میلی متر در شبیه‌سازی‌ها مورد استفاده قرار گرفته‌اند. اطلاعات مکانی و انرژی توده یون‌های پلاسمایی شکل گرفته در این روش و نیز اطلاعات مشابه برای یو...

پایان نامه :دانشگاه بین المللی امام خمینی (ره) - قزوین - دانشکده علوم پایه 1390

در سری اول لایه نشانی نمونه های اکسید نقره به مدت 2 ساعت و تحت جریان ma 20 برروی شیشه و سیلیکون در دماهای مختلف لایه نشانی شدند با انجام آنالیز پراش اشعه x در نمونه های سیلیکون فاز بلوری اکسید نقره مشاهده شد در صورتی که در نمونه های شیشه فاز بلوری اکسید نقره مشاهده نشد که برای دسترسی به فاز بلورین نمونه ها بازپخت شدند که پس از بازپخت فاز بلوری مشاهده گردیدکه با انجام آنالیز xps بر روی یکی از نم...

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تبریز - دانشکده فیزیک 1393

امروزه کاربرد وسیع تخلیه ی الکتریکی در تولید پلاسما های غیر حرارتی روشی است که در چند دهه ی اخیر مورد توجه قرار گرفته است . پلاسما ی تخلیه ی الکتریکی اعم از تخلیه های dc، rf و مایکروویو، کاربردهای فراوانی در زمینه های مختلف پزشکی ، دارو سازی ، هوا فضا ،صنعت و... دارد . یکی از عمده ترین کاربرد های پلاسمای تخلیه الکتریکی، کندوپاش می باشد . از کندوپاش پلاسمایی در زمینه ی لایه نشانی سطح رساناها ، ن...

پایان نامه :وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه سیستان و بلوچستان 1380

سطح آینه ای تجاری و صنعتی موجود در بازار مصرف، عمدتا بوسیله آبکاری شیمیایی تهیه می شود که همگی دارای یک خصوصیت اپتیکی می باشند و امکان تغییرات اپتیکی از نظر میزان انعکاس، جذب و شکست تقریبا وجود ندارد. مزید بر آن پسمانهای حمام شیمیایی این روش، مشکلات و معضلات زیست محیطی فراهم می سازد. با مقایسه و تکیه بر کاستیها و ناکارآمدیهای روش متداول امروزی، مگنترون اسپاترینگ ‏‎(magnetron-sputt)‎‏ بسیار روش ...

نمودار تعداد نتایج جستجو در هر سال

با کلیک روی نمودار نتایج را به سال انتشار فیلتر کنید