اکسید نقره به جهت کاربردهای الکتریکی ، اپتیکی و مگنتو اپتیکی که در ذخیره کننده های اطلاعات دارد به طور گسترده مورد مطالعه قرار گرفته است. فرم های گزارش شده برای اکسید نقره عبارتند از:ago ،ag2o ،ag3o4 و ag2o3 می باشند که از این میان ag2o به لحاظ ترمودینامیکی پایدار تر است. باند گاف انرژی وسیعی که در گستره ev 2/1 تا ev 4/3 قرار دارد به تکنیک های مختلف لایه نشانی، فازهای بلوری و نسبت های شیمیایی مختلف عناصر وابسته است. در این پایان نامه ، لایه های نازک اکسید نقره که با استفاده از روش کندوپاش یونی فعال در دمای 100 درجه سانتیگراد (373 کلوین) با استفاده از مخلوط گازی اکسیژن و آرگون روی زیرلایه های شیشه ای نشانده شده اند. در حالیکه نسبت نرخ جریان گاز در ثابت نگه داشته شده است ، ولتاژ کندوپاش از 300 ولت تا 600 ولت تغییر داده شده است. ساختار و فاز لایه ها با استفاده از آنالیز پراش پرتو x بررسی شده اند. مورفولوژی سطح لایه های نشانده شده با استفاده از آنالیزهای afm و sem صورت گرفت. با توجه به داده های afm افزایش ولتاژ منجر به افزایش اندازه دانه ها و کاهش زبری سطوح می شود.ضخامت لایه ها با استفاده از ضخامت سنجی بررسی شده است. نتایج حاصل نشان می دهند که با افزایش ولتاژ ضخامت لایه ها افزایش می یابد. خواص اپتیکی لایه ها با استفاده از آنالیزهای اسپکتروفوتومتری uv-vis-nir و بیضی سنجی مورد مطالعه قرار گرفته است. با توجه به نتایج این آنالیزها با افزایش ولتاژ عبور و ضریب شکست لایه ها کاهش می یابد در حالیکه ضریب خاموشی افزایش می یابد.

در سری اول لایه نشانی نمونه های اکسید نقره به مدت 2 ساعت و تحت جریان ma 20 برروی شیشه و سیلیکون در دماهای مختلف لایه نشانی شدند با انجام آنالیز پراش اشعه x در نمونه های سیلیکون فاز بلوری اکسید نقره مشاهده شد در صورتی که در نمونه های شیشه فاز بلوری اکسید نقره مشاهده نشد که برای دسترسی به فاز بلورین نمونه ها بازپخت شدند که پس از بازپخت فاز بلوری مشاهده گردیدکه با انجام آنالیز xps بر روی یکی از نمونه ها نشان دادیم که لایه اکسید نقره تشکیل شده ولی به صورت آمورف می باشد انجام آنالیز ft-ir نیز تایید کننده این مطلب است . مورفولوژی سطح و میزان زبری لایه ها با استفاده از آنالیز afm بررسی شد و مشاهده شد که با باز پخت نمودن و افزایش شار اکسیژن در حین بازپخت، دانه ها رشد یافته و بزرگتر می شوند و همچنین از زبری سطح کاسته می شود. جهت مطالعه خواص میکرو- نانو ساختاری لایه ها از میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) استفاده شد. تصاویر sem وجود سطوح متخلخل با حفره های متعدد را نشان می دهد که با بازپخت نمودن لایه ها این حفرات پهن تر و با ادامه افزایش شار گاز اکسیژن از میزان پهن شدگی حفرات کاسته می شوبه منظور بررسی خواص نوری نمونه ها، آنالیز های uv-vis و بیضی سنجی (ellipsometry) انجام گرفت. با مقایسه طیف های حاصل از آنالیز uv-vis مشاهده شد که با بازپخت نمودن لایه ها از شفافیت آنها کاسته می شود و میزان جذب نور در لایه ها به حدود 95% می رسد. میزان بازتاب و عبور از این لایه ها بسیار ناچیز است.

چکیده ندارد.