نتایج جستجو برای: لایه نشانی به کمک پلاسما
تعداد نتایج: 689158 فیلتر نتایج به سال:
در این شبیه سازی، محیط گازی را محیطی پیوسته و جریان گاز را جریانی آرام فرض کرده ایم. همچنین از اثرات تابش صرف نظر نموده و گازها را در محیط پلاسما ایده آل در نظر می گیریم. در نتیجه این شبیه سازی که با استفاده از نرم افزارفلوئنت انجام شده است، نرخ لایه نشانی کربید سیلیسیوم و همچنین پروفیل لایه نشانی محاسبه شده آن و نیز اثر پارامتر های مختلف موثر بر لایه نشانی شامل: نرخ ورودی گاز، دمای سطح زیر لای...
در این تحقیق پوشش های نانوساختار از جنس ticx از طریق فرآیند لایه نشانی از فاز بخار به کمک پلاسما (pacvd) و با هدف بهبود خواص مکانیکی، سایشی و تریبولوژیک، بر روی نمونه هایی از جنس فولاد ابزار گرم کار h11 نشانده شدند. پوشش ها در ولتاژ ثابت و زمان لایه نشانی 120 دقیقه لایه نشانی شدند. همچنین متغیرهای انتخاب شده برای فرآیند پوشش دهی شامل دما، نسبت های گازی ticl4/ch4 و دوره های کاری بودند. بررسی پوش...
کار بر روی پروژه "شبیه سازی، طراحی و تهیه ی اجزای مورد نیاز برای ساخت سامانه ی لایه نشانی pecvd"، با هدف لایه نشانی اکسیدسیلیکون به عنوان لایه ی محافظ در قطعات الکترونیک آغاز شد. در مراحل ابتداییِ تحقیق مشخص شد که اغلب لایه های دی الکتریک موجود در تکنولوژی مدارات مجتمع، از جمله دی الکتریک بین لایه ها، اکسید میدان، لایه های محافظ و حتی در مواردی اکسید گیت، با روش های لایه نشانی بخار شیمیایی در مح...
یافتن روشی مقرون به صرفه برای ساخت الکترولیت پیلهای سوختی جامد اکسیدی از موضوعات بحث برانگیز در طول سالهای اخیر بوده است. یکی از روشهای پیشنهادی برای ساخت الکترولیتی با ضخامت کم و متراکم بر روی الکترود متخلخل، روش لایه نشانی الکتروفورتیکی بوده است. تا کنون حلالهای مختلفی برای لایه نشانی الکتروفورتیکی زیرکونیای تثبیت شده توسط ییتریا پیشنهاد شده اند، اما تلاشهای کمی برای مقایسه این حلالها صورت گر...
لایه های اکسیدی به روشی جدید در محدوده دمایی بالاتر از 140 درجه سانتیگراد و فشارهای 4 الی 20 تور در نسبت های مختلف گازی o2/sih4 تهیه شده اند که دارای نرخ لایه نشانی بین 0 -500 آنگسترم در دقیقه و نرخ لایه برداری بین 50-110 آنگسترم در ثانیه و میدان های شکست از مرتبه مگاولت بر سانتیمتر بوده که از لحاظ کیفیت بسیار نزدیک به لایه های اکسید حرارتی می باشند. آنالیز لایه های اکسیدی تهیه شده به وسیله ft-...
امروزه پلاسما کاربردهای وسیعی را در صنعت بخود اختصاص داده است. یکی از کاربردهای آن، لایه نشانی سطوح مواد مختلف به جهت بهبود و ایجاد خواص فیزیکی، شیمیایی و مکانیکی ویژه است . دراین پژوهش با استفاده از مشعل پلاسمایی و کاربرد گازهای اکسیژن و نیتروژن مورد استفاده به صورت عملی، پودر فلز آلومینیوم و اکسیدآلومینیوم (آلومینا) بروی قطعات استیل نسوز به روش اسپری پلاسمایی لایه نشانی گردیده است. نت...
در این مقاله سیستم تأمین انرژی و تخلیه جریان سیمپیچ چنبرهای توکامک دماوند به منظور افزایش زمان میدانهای مغناطیسی با هدف ماندگاری پلاسما، طراحی شبیهسازی شده است. حال حاضر سیمپیچ دارای نیم سیکل سینوسی مدت ms 100 پیک kA 12 است که میدان مغناطیس تقریباً T 1/1 مرکز چنبره تولید میکند ناحیه تخت آن حدود 20 میباشد برای تشکیل محصورسازی پلاسما استفاده میگردد. ارتقاء 200، ضروری سیستمهای کنترل مربو...
هدف از این مقاله، ارزیابی کیفی خواص مکانیکی پوشش نانوساختار سخت نیترید آلومینیوم-تیتانیوم اعمال شده بر روی ابزارهای برش با استفاده از آزمون پراش پرتو ایکس می باشد. برای این منظور پوشش های نانوساختار tialn و tin با استفاده از روش های رسوب گذاری شیمیایی از فاز بخار به کمک پلاسما و کندوپاش مغناطیسی با توان برانگیختگی بالا به صورت جداگانه لایه نشانی شدند. برای بهبود چسبندگی پوشش نانوساختار tialn به...
لایه نازک کربن شبه الماسی به علت خاصیت ضد بازتابی که دارند به منظور افزایش بازدهی سلولهای خورشیدی استفاده میگردد. در این تحقیق نانو فیلم کربن شبه الماسی با ضخامت 80 نانومتر بر سلول خورشیدی سیلیکونی نوع P به روش رسوب شیمیایی از فاز بخار تقویت شده با پلاسما (PECVD) از مخلوط گازهای هیدروژن و متان لایه نشانی شد. خواص اپتیکی پوشش به وسیله دستگاه بیضی سنجی وUV-VIS-NIR Recording Spectro Photometer ...
نمودار تعداد نتایج جستجو در هر سال
با کلیک روی نمودار نتایج را به سال انتشار فیلتر کنید