لایه نشانی شیمیایی بخار یک ماده ی پلیمری (پلی کربوسیلان) در یک رآکتور استوانه ای و در فشار جو با استفاده از گاز آرگون، به عنوان گاز حامل، برای تولید فیلم نازک سیلیکون کرباید، شبیه سازی شده است. شبیه سازی به صورت عددی و با به کارگیری روش حجم محدود، انجام شده است. تاثیر پارامترهای کسرجرمی ورودی، عدد رینولدز ورودی، دمای زیرلایه، فاصله ی زیرلایه از ورودی، دمای دیواره ی رآکتور، دمای مخلوط ورودی، و ...

لایه نشانی متوالی لایه های فوق نازک نانومتری ترکیبات سیلیکونی نیترید سیلیسیم، پلی سیلیکون و دی اکسید سیلیسیم به روش لایه نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین (lpcvd) و بررسی خواص لایه ها، سینتیک و ترمودینامیک تشکیل آنها هدف نهایی این پروژه کارشناسی ارشد است. مواد اولیه مورد استفاده درلایه نشانی ها عبارتند از تری کلرو سیلان (tcs) ، دی کلرو سیلان (dcs) ، سیلان(sih4) ، نیتروژن(n2) ، اکسیژن (o2)...

کار بر روی پروژه "شبیه سازی، طراحی و تهیه ی اجزای مورد نیاز برای ساخت سامانه ی لایه نشانی pecvd"، با هدف لایه نشانی اکسیدسیلیکون به عنوان لایه ی محافظ در قطعات الکترونیک آغاز شد. در مراحل ابتداییِ تحقیق مشخص شد که اغلب لایه های دی الکتریک موجود در تکنولوژی مدارات مجتمع، از جمله دی الکتریک بین لایه ها، اکسید میدان، لایه های محافظ و حتی در مواردی اکسید گیت، با روش های لایه نشانی بخار شیمیایی در مح...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°c40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°c65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°C40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°C65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

بررسی روش ساخت و کیفیت لایه‏های نازک نیترید سیلیکون آمورف رسوب داده شده به روش لایه‏نشانی شیمیایی از فاز بخار در فشار پایین1 از مخلوط رادیکالهای آزاد تشکیل شده از سیستم گازی نیتروژن، آمونیاک و تری کلرو سیلان هدف این مقاله است. تبدیل گازهای اولیه به رادیکالهای آزاد گازی با عبور دادن آنها از روی کاتالیزور سرامیکی پلاتین ایریدیوم آلومینا در دمای 600 درجه سانتیگراد انجام شد. تغییرات سینتیک رشد لایه...

در این تحقیق، پارچه پلی­استری با پوششی از نانوذرات پلی (3- آلکیل­تیوفن) به روش پلیمرشدن شیمیایی و لایه نشانی بخار شیمیایی تهیه شده است. پوشش­دهی منسوج  در محفظه پلیمرشدن در مدت زمان مشخص و دمای مورد نیاز (°c40 و h 8 در پلیمرشدن همزمان و°c65 و h2 در روش لایه نشانی بخار شیمیایی) انجام شده است. مقاومت سطحی نمونه­های پوشش­دهی شده توسط ولت متر دیجیتال اندازه­گیری شده است که درروش لایه نشانی بخار شیم...

در این تحقیق لایه های نازک نیمرسانای اکسید قلع به روش بخار شیمیایی بر روی بسترهای شیشه ای تهیه شده است. سپس اثر شار اکسیژن و زمان لایه نشانی بر روی خواص ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک مورد مطالعه قرار گرفته است.لایه های تهیه شده توسط پراش پرتو ایکس (xrd)، میکروسکو‍‍‍پ الکترونی روبشیاثر میدان (fesem)و جذب نوری (uv-vis)مشخصه یابی شده اند. لایه ها دارای خواص بس بلور و یکنواخت با جهت گیری...

در این پروژه طراحی نیمه صنعتی و شبیه سازی یک دستگاه لایه نشانی بخار شیمیائی در خلأ (lpcvd) به منظور لایه نشانی پلی سیلیکون انجام شده است. در این راستا اتصال فلنج استیل به لوله کوارتز طراحی شده و برای ساخت آماده شده است. اتصالات کپسول سایلین که از لحاظ امنیتی از اهمیت بسیاری برخوردار است، شناسائی و طراحی شده است (به علت عدم امکان ساخت این اتصالات در وضعیت کنونی خریداری آنها پیشنهاد شده است)؛ کنت...

نانو لوله های کربنی موازی با روش رسوب شیمیایی بخار و با استفاده از لایه نشانی کاتالیست کبالت بر روی لایه ی محافظ اکسید آلومینیوم، سنتز گردیدند. از ترکیب مشخص گاز حامل آرگون و بخار اتانول برای رشد استفاده شد. تاثیر  آهنگ ورود جریان گاز هیدروکربن (اتانول)، بر روی طول و چگالی نانولوله های کربنی مورد بررسی قرار گرفت. با فشار ثابت  mmhg10 راکتور در آزمایش ما با افزایش نرخ ورود بخار اتانول به محفظه ت...