سطح آینه ای تجاری و صنعتی موجود در بازار مصرف، عمدتا بوسیله آبکاری شیمیایی تهیه می شود که همگی دارای یک خصوصیت اپتیکی می باشند و امکان تغییرات اپتیکی از نظر میزان انعکاس، جذب و شکست تقریبا وجود ندارد. مزید بر آن پسمانهای حمام شیمیایی این روش، مشکلات و معضلات زیست محیطی فراهم می سازد. با مقایسه و تکیه بر کاستیها و ناکارآمدیهای روش متداول امروزی، مگنترون اسپاترینگ ‏‎(magnetron-sputt)‎‏ بسیار روش ...

هدف اصلی این تحقیق، بررسی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه نازک fept نسبت به دمای بازپخت است. لایه های نازک fept به روش کندوپاش روی زیرلایه شیشه ای با نرخ                          6 و با توان w 110 رسوب داده شدند. خلأ اولیه محفظه کندوپاش برابر torr 7-10 5 و فشار گاز آرگون mtorr 3 در نظر گرفته شد. پس از تهیه نمونه ها، در محدوده 650-450 به مدت 30 دقیقه بازپخت شدند. شناسایی فازی لایه نازک با استفاده ا...

هدف اصلی این تحقیق، بررسی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه نازک FePt نسبت به دمای بازپخت است. لایه‌های نازک FePt به روش کندوپاش روی زیرلایه شیشه ای با نرخ                          6 و با توان W 110 رسوب داده شدند. خلأ اولیه محفظه کندوپاش برابر Torr 7-10 5 و فشار گاز آرگون mTorr 3 در نظر گرفته شد. پس از تهیه نمونه‌ها، در محدوده 650-450 به مدت 30 دقیقه بازپخت شدند. شناسایی فازی لایه نازک ب...

این مقاله به بررسی خواص فیزیکی و مکانیکی پوشش‌های سخت و فوق سخت ایجاد شده به روش کندوپاش مغناطیسی می-پردازد. سپس خواص مکانیکی لایه‌های سخت بررسی شده،موضوعاتی مانند؛ پوشش‌های نانوکامپوزیتی با سختی افزایش یافته، پایداری حرارتی آن‌ها، مقاومت به اکسیداسیون آن‌ها در دمای بالای 1000، پوشش‌های آمورف مقاوم به حرارت در دمای بالای 1000 و پوشش‌های نانوکامپوزیتی سخت پیشرفته جدید با چقرمگی افزایش یافته بررس...

در این مقاله با بهینه سازی پیکربندی اجزای مغناطیسی کاتد کندوپاش مگنترون تخت گرد توسط نرم افزار اجزای محدود ansys، یک طرح جدید برای چیدمان قطعات مغناطیسی کاتد پیشنهاد شده است. در این طرح با مایل قرار دادن آهنربای کناری نسبت به سطح هدف و بکارگیری یک مهار در زیر آن، خطوط شار مغناطیسی در ناحیه نسبتاً وسیعی در بالای هدف موازی سطح آن شده است. علاوه بر این، یک نمونه کاتد بر اساس این طراحی ساخته و پارام...

در این مقاله با بهینه‌سازی پیکربندی اجزای مغناطیسی کاتد کندوپاش مگنترون تخت گرد توسط نرم‌افزار اجزای محدود ANSYS، یک طرح جدید برای چیدمان قطعات مغناطیسی کاتد پیشنهاد شده است. در این طرح با مایل قرار دادن آهنربای کناری نسبت به سطح هدف و بکارگیری یک مهار در زیر آن، خطوط شار مغناطیسی در ناحیه نسبتاً وسیعی در بالای هدف موازی سطح آن شده است. علاوه بر این، یک نمونه کاتد بر اساس این طراحی ساخته و پارام...

در این پژوهش یک نمونه چشمه پلاسمای کاتد داغ برای یک چشمه پرتو یون پهن به قطر 5 سانتیمتر طراحی و ساخته شد. این چشمه یون قابل استفاده در لایه نشانی به روش کندوپاش است. وضعیت تشکیل پلاسما در خلأ بالا (محدوه 3-10 تا 4-10میلی بار) و با اعمال میدان مغناطیسی توسط مجموعه آهنرباهای دائمی مورد مطالعه قرار گرفت. تأثیر پارامترهای کنترلی مختلف مانند فشار کار، پتانسیل تخلیه الکتریکی و جریان چشمه الکترون (رشت...

در این رساله خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک کربن مس مورد بررسی قرار گرفته است. لایه های نازک کربن مس بر روی زیر لایه شیشه تهیه شدند. این لایه ها به دو روش کندوپاش مغناطیسی rf و dc در زمانهای مختلف در دمای اتاق لایه نشانی شدند. سپس با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی afm))، edx، میکروسکوپ روبشی (sem)، طیف پراش اشعه ایکس(xrd)، طیف سنج ft-ir و جذب نوری uv_vis مورد مطالعه و بررسی قرار...

در این پژوهش یک نمونه چشمه پلاسمای کاتد داغ برای یک چشمه پرتو یون پهن به قطر 5 سانتیمتر طراحی و ساخته شد. این چشمه یون قابل استفاده در لایه‌نشانی به روش کندوپاش است. وضعیت تشکیل پلاسما در خلأ بالا (محدوه 3-10 تا 4-10میلی‌بار) و با اعمال میدان مغناطیسی توسط مجموعه آهنرباهای دائمی مورد مطالعه قرار گرفت. تأثیر پارامترهای کنترلی مختلف مانند فشار کار، پتانسیل تخلیه الکتریکی و جریان چشمه الکترون (رشت...

در این پژوهش، نتیجه­ های مربوط به تغییرهای ساختاری و ویژگی­ های مغناطیسی چند لایه ­ای Fe/Al/Fe رشد یافته بر روی زیرلایه ی Si(100) مورد مطالعه قرار گرفت. نانو لایه های نازک به روش کندوپاش مگنترونی RF لایه نشانی شدند به طوری که ضخامت هر لایه  nm30 می‌باشد. نتیجه­ های تحلیل XRD  نشان داد جهت ترجیهی  سه لایه ای Fe/Al/Fe در راستای (200)  می باشد. در ادامه به­ منظور بررسی رف...