تشکیل لایه مدفون شده نیترات سیلیکون ‏‎(si3 ni+)‎‏ به روش کاشت یون و مطالعه خواص الکتریکی و بلوری آن

پایان نامه
چکیده

لایه نیترات سیلیکون ‏‎(sixny)‎‏ در صنایع میکروالکترونیک کاربرد فراوانی پیدان کرده است. به عنوان نمونه مواردی از قبیل: لایه های دی الکتریک عایق، سدهای نفوذی (در مقابل اکسیژن، رطوبت، سدیم و...) استفاده به عنوان ماسک در تهیه مدارات مجتمع و خواص فعال - غیرفعال سازی در قطعات الکترونیکی را می توان نام برد. این خصوصیات به مقدار زیادی به روش ساخت، نسبت استوکیومتری مناسب ‏‎(si3n4)‎‏ وجود ناخالصی هایی مثل اکسیژن و هیدروژن وخواص میکروسکوپی لایه مثل طول و زاویه پیوند و... بستگی دارد. یکی از روش های ساخت این لایه که ارتباط نزدیکی با ساختارهای ‏‎(silicon on insulator) soi‎‏ و ‏‎(metal-insulator-semiconductor). mis‎‏ دارد. استفاده از روش کاشت یونهای نیتروژن می باشد. لایه نیترات سیلیکون مدفون شده توسط کاشت یونهای نیتروژن ‏‎(14n+2)‎‏ با دز بالا (از مرتبه ‏‎10 18 ions . cm2‎‏ ) و با انرژی ‏‎90kev‎‏ در زیر لایه سیلیکون تک بلور تشکیل می شود. دمای زیر لایه در حین کاشت‎400-500 درجه سانتی گراد می باشد. از آنالیز ‏‎rbs‎‏ برای تعیین توزیع عمقی نیتروژن در داخل زیر لایه، آنالیز ‏‎ft-ir‎‏ برای نشان دادن پیوند ‏‎si-n‎‏ در ‏‎si3 n4‎‏ و آنالیز ‏‎xrd‎‏ برای تعیین بلوری یا بی شکل بودن لایه و جهت صفحات رشد بلوری استفاده شده است، خازن ‏‎(metal -nitride - silicon) mns‎‏ پس از برداشتن لایه سیلیکون بلایی و عمل فلزکاری به منظور اندازه گیری قدرت عایقی لایه و رسم منحنی ‏‎(i-v)‎‏ و پیدا کردن ساز و کار فرآیند انتقال بار در عایق مورد مطالعه قرار گرفته است. تعدادی از نمونه ها را در دمای 90 درجه سانتی گراد به مدت 3 ساعت در کوره الکتریکی باز پخت کرده و اثر آن را روی خواص اپتیکی، بلوری و الکتریکی بررسی نموده ایم.

۱۵ صفحه ی اول

برای دانلود 15 صفحه اول باید عضویت طلایی داشته باشید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

مقایسه تأثیر وضعیت طاق باز و دمر بر وضعیت تنفسی نوزادان نارس مبتلا به سندرم دیسترس تنفسی حاد تحت درمان با پروتکل Insure

کچ ی هد پ ی ش مز ی هن ه و فد : ساسا د مردنس رد نامرد ي سفنت سرتس ي ظنت نادازون داح ي سکا لدابت م ي و نژ د ي سکا ي د هدوب نبرک تسا طسوت هک کبس اـه ي ناـمرد ي فلتخم ي هلمجزا لکتورپ INSURE ماجنا م ي دوش ا اذل . ي هعلاطم ن فدهاب اقم ي هس عضو ي ت اه ي ندب ي عضو رب رمد و زاب قاط ي سفنت ت ي هـب لاتـبم سراـن نادازون ردنس د م ي سفنت سرتس ي لکتورپ اب نامرد تحت داح INSURE ماجنا درگ ...

متن کامل

ساختار، ریزساختار، خواص مغناطیسی و الکترومغناطیسی فریت Ni-Mn-Zn تولید شده به روش احتراقی گلیسین- نیترات

     در این پژوهش، فریت نانوساختار منگنز-­ نیکل- روی با ترکیب شیمیایی ­Mn0.5-xNixZn0.5Fe2O4                        (x=0,0.1,0.2,0.3,0.4,0.5) به روش سنتز احتراقی تولید شد. در این فرایند، از گلیسین به عنوان سوخت و از نیترات‌های فلزی به عنوان اکسنده استفاده شد. پودرها پس از تولید تحت آنالیز پراش پرتو ایکس قرار گرفت. داده‌های پراش­سنجی بیانگر تشکیل موفقیت‌آمیز ساختار اسپینل در ذرات پودر نانوساختار ...

متن کامل

لایه نشانی آلیاژ Ni-Zn-P و نانوکامپوزیت Ni-Zn-P/nano SiC از یک حمام جدید به روش آبکاری الکتریکی و بررسی ویژگیهای خوردگی آن

 در این پژوهش یک حمام آبکاری الکتریکی جدید، جهت رسوبدهی پوششهای آلیاژی پایه نیکلی Ni-Zn-P و نانوکامپوزیتی Ni-Zn-P/nano SiC روی ورق فولادی کم کربن معرفی شد. بهینهی ترکیب شیمیایی حمام نیز با بررسی مقدار ترک در پوشش به کمک میکروسکوپ روبشی الکترونی (SEM) تعیین شد. همچنین، مقایسهای بین رفتار خوردگی پوششهای آلیاژی بدست آمده از حمام با غلظتهای متفاوت اسید فسفریک و پوششهای نانوکامپوزیتی نیز در محلول...

متن کامل

تاثیر غلظت عامل اکسید کنندة سیلیکاتی و زمان اکسیداسیون بر خواص لایه تشکیل شده روی آلومینیم به روش پلاسمای الکترولیتی

در این تحقیق تاثیر افزایش غلظت عامل اکسید کننده سیلیکات سدیم و زمان عملیات اکسیداسیون پلاسمای الکترولیتی بر روی خواص لایه اکسیدی ایجاد شده بر روی آلومینیم بررسی شد. برای مطالعه ساختار فازی و مورفولوژی سطحی به ترتیب از دستگاه پراش اشعة x (XRD) و میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و برای تعیین نرخ سایشی از دستگاه تست سایش رفت و برگشتی (Pin on Plate) استفاده شده است. نتایج نشان می‌دهد که لایه اکسیدی ت...

متن کامل

مشخصه یابی اتصال Ni/Cu براساس شیوه لایه نشانی الکتروشیمیایی نیکل برای سلول های خورشیدی مولتی کریستال سیلیکونی

در این مقاله، ساختار Ni/Cu به عنوان اتصال اهمی بر روی زیرلایه مولتی کریستال سیلیکون به روش الکتروشیمیایی (آبکاری الکتریکی) لایه �نشانی و مقاومت الکتریکی آن بهینه شده است. به منظور ایجاد ساختار مورد نظر، نیکل به دو روش آبکاری غیرالکتریکی و الکتریکی بر روی زیرلایه�های n+-Si� لایه نشانی شده و پس از گرمادهی (جهت بهبود خواص کریستالی)، لایه�ای از مس به روش آبکاری الکتریکی به منظور کاهش مقاومت سطحی و ...

متن کامل

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


نوع سند: پایان نامه

وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تربیت معلم تهران - دانشکده علوم

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023