پایان‌نامه

هدایت الکتریکی سیلیکان متخلخل بر پایه مستقل

چکیده

به دلیل خواص متنوع و قابل توجه سیلیکان متخلخل، این ماده در زمینه های بسیاری از جمله الکترونیک، میکرو الکترونیک، اپتیک و ساخت انواع حسگرها کاربرد فراوانی دارد.در این پایان نامه تصمیم بر این است که سیلیکان متخلخل ساخته شود و هدایت الکتریکی آن بررسی گردد.برای ساخت سیلیکان متخلخل می خواهیم از روش الکتروشیمیایی استفاده کنیم. در نظر داریم ویفر های سیلیکان نوع p که بدون پولیش هستند را به کار ببریم و در محلول الکترولیت به جای اتانول از دی متیل فرمامید (dmf) استفاده کنیم. برای ساخت، چگالی های جریان و مدت زمان های متفاوتی به کار می بریم و نمونه های متفاوتی می سازیم. سپس با استفاده از تصاویر sem ساختار و ریخت شناسی آنها را بررسی خواهیم کرد. ضخامت و درصد تخلخل نمونه های حاصله را با استفاده از روش وزن سنجی و به کمک تصاویر sem اندازه گیری می کنیم. به منظور مطالعه هدایت الکتریکی سیلیکان متخلخل اتصالاتی در هر نمونه ایجاد می کنیم و آن را در مدار مورد نظر قرار می دهیم و منحنی i-v آن را در بازه دمایی 300-200 کلوین اندازه گیری می کنیم.در مرحله بعد، پس از ساخت سیلیکان متخلخل لایه متخلخل به وجود آمده را از زیر لایه جدا می کنیم تا سیلیکان متخلخل بر پایه مستقل (free-standing porous silicon) حاصل شود. سپس اتصالاتی بر روی نمونه ایجاد کرده و در مدار قرار می دهیم تا جریان گذرنده بر حسب ولتاژ اعمال شده را اندازه گیری نماییم. با استفاده از داده های به دست آمده به بررسی هدایت الکتریکی dc سیلیکان متخلخل می پردازیم و آن را با داده های مقالات دیگران مقایسه می کنیم.

اساتید راهنما و مشاور

رضا ثابت داریانی

اسناد مشابه

  • ارزیابی عوامل موثر بر پخش شوندگی و هدایت الکتریکی جوهرهای آب پایه حاوی کربن سیاه

    مقاله۲۰۲۴مواد پیشرفته و پوششهای نوینمحمدعلی مختاری فارسی، محمد فارسی، سحر عبدالهی باغبان، حمزه کریمی

    در سال‌های اخیر، جوهرهای رسانای آب‌پایه به‌عنوان جایگزین‌های سازگار با محیط‌زیست برای سامانه‌های پایه‌حلالی مورد توجه قرار گرفته‌اند. کربن سیاه به‌عنوان یک ماده رسانای غیرفلزی و مقرون‌به‌صرفه، کاربرد گسترده‌ای در فرمولاسیون این جوهرها دارد. با این حال، دستیابی همزمان به پخش‌شوندگ

  • بررسی وابستگی میکروساختارهای سطحی سیلیکان متخلخل و خواص اپتیکی آن

    مقاله۲۰۱۹پژوهش فیزیک ایرانسعیده رمضانی ثانی، عبدالله مرتضی علی

    در این مقاله اثر افزایش تخلخل و تغییرات میکروساختاری سطحی بر روی خواص اپتیکی و دی الکتریکی سیلیکان متخلخل بررسی شده است. تخلخل به عنوان یک ناهمواری سطحی در ابعاد میکرونی یا کوچکتر, که اثرات کوانتومی در فرایند جذب و انعکاس از سیلیکان متخلخل را نشان می دهد و نسبت به خواص اپتیکی سیل

  • بررسی وابستگی میکروساختارهای سطحی سیلیکان متخلخل و خواص اپتیکی آن

    مقالهپژوهش فیزیک ایرانسعیده رمضانی ثانی، saeideh rhramezani sani physics department, al-zahra university, tehran, iranگروه فیزیک، دانشگاه الزهرا، تهران عبدالله مرتضی علی، abdollah morteza ali physics department, al-zahra university, tehran, iranگروه فیزیک، دانشگاه الزهرا، تهران

    در این مقاله اثر افزایش تخلخل و تغییرات میکروساختاری سطحی بر روی خواص اپتیکی و دی الکتریکی سیلیکان متخلخل بررسی شده است. تخلخل به عنوان یک ناهمواری سطحی در ابعاد میکرونی یا کوچکتر, که اثرات کوانتومی در فرایند جذب و انعکاس از سیلیکان متخلخل را نشان می دهد و نسبت به خواص اپتیکی سیل

  • همبستگی تخلخل با زبری توسط طیف پراکندگی سطوح نانویی سیلیکان متخلخل

    مقالهپژوهش فیزیک ایرانرضا ثابت داریانی، r dariani department of physics, alzahra university, tehran, iranگروه فیزیک، دانشگاه الزهرا (س)، تهران ستاره ابراهیم نسب، s ebrahimnasab department of physics, alzahra university, tehran, iranگروه فیزیک، دانشگاه الزهرا (س)، تهران

    10 ma/cm2طیف بازتاب، چهار نمونه سیلیکان متخلخل تحت زمانهای خوردگی 2، 6، 10 و 14 دقیقه با چگالی جریاناندازه گیری شد. رفتار طیف بازتاب برای هر چهار نمونهیکسان، اما شدت آنها متفاوت بود و با افزایش زمان، شدت بازتاب، کاهش می یافت. دلیل عدم تغییر در رفتارهای طیف بازتاب ، یکسان بودن غلظ

  • همبستگی تخلخل با زبری توسط طیف پراکندگی سطوح نانویی سیلیکان متخلخل

    مقاله۲۰۱۹پژوهش فیزیک ایرانرضا ثابت داریانی، ستاره ابراهیم نسب

    10 mA/cm2طیف بازتاب، چهار نمونه سیلیکان متخلخل تحت زمانهای خوردگی 2، 6، 10 و 14 دقیقه با چگالی جریاناندازه‌گیری شد. رفتار طیف بازتاب برای هر چهار نمونهیکسان، اما شدت آنها متفاوت بود و با افزایش زمان، شدت بازتاب، کاهش می‌یافت. دلیل عدم تغییر در رفتارهای طیف بازتاب ، یکسان بودن غلظ

  • اندازه گیری هیدروژن در عمق نمونۀ سیلیکان متخلخل به روش آشکارسازی ذرات پس زده از برخورد کشسان

    مقالهسنجش و ایمنی پرتومحمد ترکیها، mohammad torkiha faculty of physics, university of kashan, km 6 ghotbravandi blvd, kashan, isfahan, iranایران، اصفهان، کاشان، کیلومتر 6 بلوار قطب راوندی، دانشگاه کاشان، دانشکده فیزیک، کد پستی: 8731751167 امیدرضا کاکویی، omid reza kakuee physics & accelerators research school, nstri, tehran, iranپژوهشکده فیزیک و شتابگرها، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران، ایران وحید فتح اللهی، vahid fathollahi physics & accelerators research school, nstri, tehran, iranپژوهشکده فیزیک و شتابگرها، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، تهران، ایران

    سیلیکان متخلخل (ps) از حل الکتروشیمیایی سیلیکان در محلول hf+dmf به دست می آید. در فرایند تشکیل حفره ها در سیلیکان، ترکیبات هیدروژن دار در سطح دیواره های حفره ها ایجاد می شوند. در این تحقیق با اندازه گیری میزان هیدروژن در عمق نمونۀ ps، توزیع تخلخل در عمق نمونه تخمین زده شده است. ب