اتصال فلزهای مختلف به نیمه هادی های اکسیدی به ویژه اکسید قلع، برای ساخت ادوات مختلف، نظیر حسگر¬های گاز و سلول¬های آفتابی، حائز اهمیت بوده مورد مطالعه واقع شده است. با این وجود، بررسی¬ ویژگی¬های اتصال نقره-اکسید قلع، احتمالا به دلیل وابستگی قابل ملاحظه آن¬ها به پارامتر¬های محیطی، مورد توجه شایسته قرار نگرفته است. کار حاضر با هدف شناخت اتصال نقره-اکسید قلع آغاز شد. ابتدا، فیلم¬های اکسید قلع به دو روش اسپری¬پیرولیز و تبخیر حرارتی بر روی زیر¬پایه¬های سیلیکایی لایه¬نشانی شد. اتصال¬های نقره با بهره¬گیری از دو روش چاپ خمیر نقره و لایه¬نشانی نقره درخلا، با استفاده از الگوی اتصال نامتقارن بر روی سطح فیلم¬های اکسید قلع، ایجاد گردید. استفاده از دو روش لایه¬نشانی شیمیایی و فیزیکی امکان بررسی اثر مورفولوژی لایه اکسید قلع بر رفتار اتصال را فراهم کرد. نتیجه اندازه¬گیری¬های الکتریکی نیز نشان داد که رفتار الکتریکی اتصال قویا وابسته به روش ایجاد اتصال می¬باشد. ملاحظه شد که در روش چاپ خمیر نقره، اتصال نقره-اکسید قلع رفتار شاتکی و در روش لایه¬نشانی تبخیر در خلا، اتصال به¬وجود آمده رفتار اهمی از خود نشان می¬دهد. نمونه¬های نقره-اکسید قلع-نقره ساخته شده به¬عنوان حسگر گاز اتانول به¬کار گرفته شد. مشاهده شد که حساسیت حسگر با افزایش ضخامت لایه اکسید قلع کاهش می¬یابد. آرایش سطح لایه اکسید در این ادوات با نانوذرات نقره و طلا بررسی گردید. نتایج نشان داد که حضور ذرات نقره و طلا روی سطح sno2 باعث افزایش حساسیت حسگر می¬شود. در خصوص نقره این افزایش بیشتر می باشد.

چکیده ندارد.