در این پژوهش رشد و گسترش نانو ساختارهای اکسید روی با استفاده از گرانول روی در شکل های لایه نازک و پودر مورد بررسی قرار گرفت. رسوب بخار شیمیایی برای بررسی شرایط رشد بکار برده می شود. افزایش درجه حرارت به ترتیب روی 820‏، 860، 900 و 950 درجه سلسیوس تنظیم شد. نسبت جریان برای ar/o2 در فلوی ثابت sccm 200 نگه داشته شد؛ البته با نسبت 200/0 ، 100/100 و 50/150 . نانوساختارها بر روی زیرلایه های سیلیکون و سرامیک در شکل هایی از لایه نازک رشد یافته و ساخته شده اند. تکنیک های تحلیلی مختلفی شامل میکروسکوپ الکترون روبشی (sem)، پراش اشعه ایکس (xrd) فتولومینسانس (pl) و طیف مرئی – فرابنفش می باشد که برای مشخصه یابی و ویژگی های نمونه بکار برده شده است. نتایج نشان می دهند، که درجه حرارت زیرلایه و نسبت گاز واکنش دهنده (o2) به گاز حامل (ar) ، میزان رشد و ساختار و کیفیت نانوساختارهای zno تاثیرگذار است. این بررسی اشاره می کند که رشد نانوساختارهای zno در مقادیر مساوی از اکسیژن (o2) و آرگون (ar) در درجه حرارت 900 درجه سلسیوس دارای بالاترین میزان رشد و کیفیت بوده است و هم چنین با افزایش درجه حرارت میانگین قطر نانو ساختار اکسید روی نیز افزایش یافته است. نتایج تشریح شده اشاره می کند که زیرلایه سرامیک برای نانوساختارهای اکسید روی znoدر مقایسه با زیرلایه سیلیکون از نظر کیفیت و کمیت مناسب هستند.